"solvent resistance" 검색결과 101-120 / 139건

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  포토레지스트와 diels-arder 반응

  coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 회전시켜 균일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시킨 후 일정온도에서 baking하여 PR의 용제(solvent ... PR(photo resist)이란? ... 양성 감광제 Positive Photo Resist는 노광에 의해 분해, 분자쇄절단(Chain Scission)등이 일어나 용해성이 증가되는 PR이다.

  리포트 | 8페이지 | 37,000원 | 등록일 2007.06.23 | 수정일 2024.04.30

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  PhotoResist coating

  용제(solvent)2. 다중체(polymer)3. ... ..PAGE:17.감광액 도포(Photoresist coat)..PAGE:2목 차1) PR 도포의 목적2) 도포 공정3) Photo resist란4) Photo resist의 구성과 ... 7감광액 도포(PR coating)사진의 film에 해당빛에 민감한 물질인 PR을 웨이퍼 표면에 고르게 도포..PAGE:8스핀 코터(Spin Coater)..PAGE:9소프트 베이크(soft

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.14 | 수정일 2019.04.09

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  포토리소그래피(Photolithography)

  합성수지물질을 녹이는 유기 용제(solvent)등으로 구성되어있다.이들은 200~500nm의 파장을 갖는 빛들을 흡수하므로 노란색, 오렌지색, 붉은색의 가시광선 영역에서는 반응을 하지 ... 다중체 분자량크면 scum을 남기고 적으면 두께가 얇아진다.positive Photoresist는 빛에 민감한 반응을 보이는 감응물질(sensitizer), 박막을 형성하는 기본 합성수지물질 ... 현상액을 이용하여 빛을 받은 부분의 PR을 제거하여 pattern을 형성시키는 현상공정으로 구성된다.Photolithography 공정은 모든 공정 step이 각종 particle에

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.10.28

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  포토리소그라피(Photolithography)

  baking하여 PR의 용제(solvent)를 기화·제거시켜 단단하게 만드는 과정2. ... PR (Photo Resister)PR(Photo Resist) 특정 파장대의 빛을 받으면(노광:photo exposure) 반응을 하는 일종의 감광 고분자 화합물(photosensitive ... 포토리소그라피20001895 박시형목차기판 및 표면처리 PR (Photo Resister) 저온건조(Soft Bake) 노광(Expose Pattern) 현상(Develop) 고온건조

  리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.11.09

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  불소수지(PVDF)

  ECTFE는 고온의 아민(amine)과 케톤(ketones)을 제외 한 대부분의 화학물질(Acide, Alkallines, Organic solvents 포함)에 대해 저항 적이다.ⅲ ... 특히 TEFLON-S는 TEFLON FEP,PTFE보다 내마모성이 40배 이상 우수하다.? ... 내약품성(耐藥品性) : Chemical resistance- 테프론은 일반적으로 모든 화학제품에 안정성을 보여준다.단지 알칼리 금속제품에 약간의 영향을 받을 뿐이다.?

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.13

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  포토리소그래피(Photolithography)

  coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 회전시켜 균일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시킨 후 일정온도에서 baking하여 PR의 용제(solvent ... ) 인쇄회로기판(PCB) 가공용 포토레지스트(PR)- 감광성 dry film PR(DFR)- Photo solder mask(resist)- Photoetching ink(스크린 잉크 ... )를 기화·제거시켜 단단하게 만드는 과정을 말한다.PR(photo resist)이란 특정 파장대의 빛을 받으면(노광:photo exposure) 반응을 하는 일종의 감광 고분자 화합물

  리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.11.30

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  반도체 공정과 리소그래피 개요

  hydroxide, NaOH, KOH 등이 사용된다.빛에 노출되어 성질이 변한 감광막을 현상액을 사용하여 제거 시키는 공정Negative PR developmentnegative PR의 현상은 solvent로 ... 아래 부분을 resist 두께 만큼 에칭 ⇒ 심각한 문제 유발 가능 많은 액체 화학 폐기물 발생감광제로 보호되지 않는 부분의 장벽 물질을 제거하는데 사용Dry EtchingEtching이방성 ... EtchingEtching버퍼산화에칭(BOE)를 주로 사용 ⇒ HF를 함유한 용매 산화막에 인이 높게 함유 ⇒ 에칭률 증가 산화막에 비소가 높게 함유 ⇒ 에칭률 감소 등방성 에칭 → resist의

  리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.01.18

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  [공학]polymer brush

  ▪ Adhesive materials ▪ Protein-resistant bio-surfaces ▪ Chromotographid devices ▪ Lubricants ▪ Polymer ... interaction on the physical parameter ( length of the polymer, density of grafting, quality of the solvent ... ) ▪ Approximation for the calculation of the steric repulsion▪ Control of the selectivity of some chemical

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.11

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  Bioelectrochemistry

  coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 회전시켜 균 일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시킨 후 일정온도에서 baking하여 PR의 용제 (solvent ... )를 기화·제거시켜 단단하게 만드는 과정을 말한다.PR(photo resist)이란 특정 파장대의 빛을 받으면(photo exposure) 반응을 하는 일종의 감광 고분자 화합물(photosensi ... 단지 회로를 구현하고 seed layer를 형성할 때, thin film의 핵심 공정을 사용하기 때문에 thin film이라고 하는 것 뿐이다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.21

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  리소그래피

  solvent ; n-butylacetate * 현상 방법 spray 법 : 500~1,000rpm spin immersion 법 : 현상액과 세척액에 순차적으로 담그는 방법 * 불량 ... ResistSiO2SiSiO2SiPhoto LithographyPhotoresist 1) Positive resist 감응제가 첨가된 감광제는 현상액에 잘 녹지 않음 UV 광이 감응제에 ... 흡수되면 구조적으로 재배열하여 산이 되고, 노광된 감광제는 현상액에 잘 녹음 low molecular weight polymer(MW=5,000~10,000) 2) Negative resist

  리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.30

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  [재료공학실험, 반도체]Lithography

  현상액으로는 크게 염기성의 수용액과 solvent류가 있다. ... 대부분은 KOH 수용액과 같은 염기 수용액을 사용하지만 SU series와 같은 negative PR은 아세톤이나 특정 solvent를 사용한다.현상이 끝나면 현상과정에서 풀어진 polymy ... PR을 용제(solvent)에 녹이는 과정에서 PR 위에 deposition된 film은 제거되고 substrate 위에 deposition된 film 만이 남게 되는 것이다.* Pattern

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.28

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  반도체공학의 공정

  coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 회전시켜 균일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시킨 후 일정온도에서 baking하여 PR의 용제(solvent ... )를 기화·제거시켜 단단하게 만드는 과정을 말한다.PR(photo resist)이란 특정 파장대의 빛을 받으면(노광:photo exposure) 반응을 하는 일종의 감광 고분자 화합물 ... 종류가 많지만 자 주 이용되는 반응의 예로는TiCl(g) + CH(g) = TiC(S) + 4HCl(g)2TiCl(g) + N(g) + H(g) = 2TiN(S) + 8HCl(g)이

  리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.09

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  [전자재료]Molecular Electronics 의 이해

  These assemble onto the electrodes in large quantity. - The solvent is evaporated and the wires are brought ... A similar compound without the nitroamine group did not exhibit any negative differential resistance ... closer together until resistance shows marked decrease, indicating contact. - It is presumed that only

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.01

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  Preparation and Concentration Determination of Plasmid DNA from E. coli -Mini- Scale Preparation(E.c

  Lysis에는 nonionic or ionic detergent, organic solvents, alkali and heat을 이용하는 방법이 존재한다. ... 있다.☞ Plasmid DNA의 정제ⅰ) Growth of the bacterial cultureAntibiotics resistance marker 유전자를 (ex. ampr gene ... Colony로부터 small scale culture (소량의 액체 배지상에서 culture)를 수행한 후 이 small scale culture를 이용해 plasmid DNA의 분석

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.15

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  실리콘 산화막의 용도 및 성장 방법

  유기물질은 solvent, 황산, 과산화수소(H2O2) 등으로 무기물질은 염산(HCL), 과산화수소로서 제거된다. ... 석영관은 분리된 세 개의 저항코일(resistance coil) 내부에 있으며, 코일에 전류를 흘리면 석영관의 온도는 상승한다. 따라서 석영관 내부의 웨이퍼는 고온으로 가열된다. ... step) 드으이 장비로 측정할 수 있다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.29

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  Plastic materials-Polyamide

  : high, poor solubility of common solvent⇒ solvent spinning from concentrated sulfuric acid(진한황산)이상에서 ... performance- good electrical prop.이중결합이용한 반응- high flame resistance-leic anhydride with suitable diamines ... melt가 일어나는 곳ㆍLow melt viscosity (일단 melt 되면,)→ (process ability↑)∵ chain flexibility at aboveㆍSlovent resistance

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.24

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  Polyimide-POSS nanocomposites에 대한 계면접착력, 열 기계적 성질

  and modulus Good thermal stability Dielectric property Good resistance to organic solvents ► PIs require ... (a), 13C NMR spectrum (b), solid 29Si NMR spectrum (c) and FTIR spectrum (d) of OAPS.a)c)d)b)3.2. ... / Tensile strength etc…2.1.

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.02.13

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  [재료공학] 초음파 분무 분해법의 종류와 박막증착

  Also, the concern of non-prapect reduces the solvent evaporation time of the droplets, which is proportional ... The room temperature electrical resistivity was 106 cm order. Effect of substrate temperaturkr/ ... Undoped films showed a milky appearance, an electrical resistivity of 33 10-4cm and 70-75% optical transmittance

  리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.12

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  Thermal evaporation system

  coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 회전시켜 균일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시킨 후 일정온도에서 baking하여 PR의 용제(solvent ... 옮겨 붙이고자 하는 물질은 크게 conductive(주전도층), adhesive(접착층), resistive(저항층), dielectric(유전층), barrier 등으로 나뉜다.2 ... 단지 회로를 구현하고 seed layer를 형성할 때, thin film의 핵심 공정을 사용하기 때문에 thin film이라고 하는 것 뿐이다.

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16

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  사진공정

  solvent, n-butyl acetate등이 사용된다고 합니다.현상시에는 PR 두께와 현상액 농도, 시간 등에 변수로 달라지는 것이 기 때문에 이러한 공정 변수는 실험실 마다 사용하는 ... 빛에 반응하는 광감응제(Photo resist)를 반도체에 입히고 그 위에 원하는 패턴이 형성되어 있는 마스크를 통해서 빛을 쬐어 주어 노광시켜 광화학반응이 일어나게 되는데 반응한 ... s=다중체 함량 , v=점성계수 ?w=각속도 ??R=웨이퍼의 반경]?

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.04.24

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