"solvent resistance" 검색결과 21-40 / 139건

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  고분자 매트릭스에서 아스피린 방출

  Hydrogels can be affected by environmental changes such as pH, temperature or solvent composition. ... In the me which of chemical structure induces agarose to form gels which are very resistant. ... because of its specific chemical structure for swelling.

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.04

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  A+보장, 생화학 PCR 결과레포트, 자료 많음

  )- Extremely high concentration of enzyme (>100 U/ug of DNA)- Presence of organic solvents in the reaction ... in cattle, a disease caused by trypanosomes.[1] The high incidence of antibiotic resistance makes this ... to leave short, single-stranded 5' protrusions.

  리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2019.12.25

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  복합재료 SiC PPT 발표자료 신소재공학과

  vacuum rotary still ② Drying method change - the solvent maybe change - Determined by various factors ... _ development/ highly_wear_resistant_Al2O3_grinding_balls.html 7. ... 대한기계학회 6. https://www.ikts.fraunhofer.de/en/departments/structural_ceramics/oxide_ceramics/ materials_synthesis

  리포트 | 18페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.10.29

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  Polio Virus (폴리오 바이러스)

  virus, (+) sense single stranded RNA(7441 nucleotides) Cap0% alcohol, lipid solvent like ether, 소독제pathogenesis ... Human and nonhuman primates 만이 hosts 로 작용 (mouth 는 resistant) - 아마도 poliovirus receptors 의 부재 때문Viral ... Picornaviridae family, enterovirus genus ( greek pico - : define ‘small’) Naked, icosahedral -shaped

  리포트 | 23페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.06.12 | 수정일 2020.06.17

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  [신소재기초실험]MOS 소자 형성 및 C-V 특성 평가

  PR을 용제(solvent)에 녹이는 과정에서 PR 위에 deposition된 film은 제거되고 substrate 위에 deposition된 film 만이 남게 되는 것이다. lift-off가 ... Photo- resist(PR) 이라고 하는 광 반응성 폴리머에 마스크를 통하여 빛을 선택적으로 조사함으로써 특정 모양의 PR패턴을 형성한다.사진식각공정은 포토레지스트를 도포하는 공정으로 ... 일반적인 과정은 오븐의 온도를 120～180˚C로 하고 20-30분간 굽는다10) etchetching이란 resister라고 부르는 유기 보호막에 의한 pattern을 wafer상에

  리포트 | 10페이지 | 3,600원 | 등록일 2020.04.19 | 수정일 2020.08.13

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  성인간호학실습 Daily Note(데일리 노트) 10일 작성

  - HTN- Rt THR- both TKR- lumbar fx- s/p op- pan resistant klebsiella bacreremia- d/t r/o dug induced ... concentration gradient) 및 유속(flow rate) 분자 크기 등에 좌우됨.② 대류(convection)- 반투막을 통해 체액이 이동할 때 상당량의 용질이 용매끌기(solvent ... #1일차Daily Note08월 27일실습일지 / DM주제별학습활동- v/s 측정- op v/s 측정- BST 측정- 환자 후송- 보호구 착용- 정의: 당뇨병은 인슐린의 분비량이 부족하거나

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2021.05.30

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  FDA 승인을 받은 폐암치료제, EGFR 저해제

  Hydrophobic interaction with 3-chloro-4-fluoro-phenyl group the morpholine moiety pointed forward the solvent ... resistance 20xx. xx. xx. ... mutations show an initial pronounced response to EGFR-TKI treatment, but ultimately acquire resistance

  논문 | 15페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.11.28 | 수정일 2023.12.11

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  [재료공학]Photolithography and Hall effect

  exposure할 때 분자의 구성을 바꾼다.- sensitizer polymer phase의 반응을 제어한다.- casting solvent wafer의 빠른 회전운동을 견디게 해준다 ... PR의 구성성분 중 하나인 solvent를 제거하게 된다. Solvent만 제거할 수 있는 온도로 가열해준다. 60～100℃로 5～30min 가열한다. ... Cleaning 공정Wafer에 잔류한 유기, 무기질의 불순물(solvent, hydrous, ionic contamination) 등을 제거하는 세척과정이다.

  리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.09.10 | 수정일 2020.08.05

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  반도체 소자 및 설계

  The cross-linked resist cannot be washed away in solvents.{nameOfApplication=Show} ... ProcessLithography•Positive lithography : the pattern printed on the wafer surface has the same image ... .• Masks contain the patterns of windows which are transferred to the surface of the silicon waferPhotolithographic

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.06.08

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  [고분자공학실험]ITO Pattering 공정

  PR을 용제(solvent)에 녹이는 과정에서 PR 위에 deposition된 필름은 제거되고 기판 위에 deposition된 필름만이 남게 되는 것이다. ... 현상이 끝나면 미미하게 남아있는 PR 내부의 PEGMEA 와 같은 solvent를 제거하고 세척 후 완전한 수분제거를 목적으로 후 열처리를 시켜줘야 하는데 (past-bake) 이러한 ... 특히 dry etching의 경우 이온 가속만을 이용하는 IBE(ion beam etching)와 sputtering과 같이 magnetron을 이용하는 sputtering etching

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2017.11.12 | 수정일 2020.08.05

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  USP 통칙원본

  of a liquid, in sufficient solvent to make 100ml of the solution.8.140. ... as a resistance temperature device, thermissolids in liquids, percent weight in volume;-For solutions ... Filtration6.50.20 soiution6.50.20.1 adjustment to solutionsWhen a specified concentration is called fo

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.04.01

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  디스플레이 아이디어 레포트

  보다 양성 PI 를 활용할 필요가 있음 PI 의 광반응성은 기존의 방법으로 구현 가능 OLED 유기물 위에 PR 을 도포해야 하는 아이디어의 특성상 유기물을 손상시키지 않는 PI solvent ... 더 상세하게는 OLED 유기물을 손상시키지 않는 Photo Resist 를 이용해 R,G,B 순으로 포토리소그래피 공정을 진행한다 . ... 구현 방법 필요 기술 Photoresist 로 Polyimide(PI) 를 이용 PI 를 spin coating 하기 위해 용매를 통한 점성 부여 Red 유기물 위에 PR coating

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.12.27

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  [화학실험] 알코올 정량분석 pre-report (예비레포트)

  because of interactions between molecules of the solute, the substance dissolved in the solvent. ... dissolved in a nonabsorbing solvent is directly proportional to the concentration of the substance and ... Tertiary alcohols are resistant to oxidation.The direct oxidation of primary alcohols to carboxylic acids

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.06.13

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  Microlens array photography and reflow report(레포트/보고서) - 설계및생산공학2 (2014)

  PR coating이 끝난 후에는 soft baking이라는 공정을 거쳐야 하는데, 도포된 PR을 공정에 유리하도록 굳게 만들 뿐만 아니라 PR 접착력을 높이고 solvent를 증발시켜야 ... 먼저, 마스크 기판에 PR(Photo resist)을 균일하게 도포한다. PR이 도포된 마스크 비판 위에 micro size의 원이 그려진 mask를 올리고 노광을 시킨다. ... 이를 간단하게 표현하면 다음과 같다.이번 실험에서 이용한 positive resist를 예시로 다음 과정의 원리를 살펴보자.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.04.04

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  포토리소그래피 (Photolithography) 기술

  리소그래피 공정에서 사용되는 감광성 수지이며 반도체 디바이스의 미세화를 가능하게 해주는 재료이다.감광제는 폴리머(polymer)와 광감응제(sensitizer), 용제(solvent ... 용해 효과 및 코팅성 개선을 위해 사용되는 용제(solvent)는 도포 시 균일도를 좋게 하기 위하여 사용되며 전체의 약 70%로 구성된다. ... 포토리소그래피 (Photolithography) 기술포토리소그래피 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.12.07

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  Photolithography를 이용한 patterning

  시 발생한 stress 는 PR 의 접착력에 영향 - PR 로부터의 기체배출은 광학시스템의 렌즈를 오염 - Remaining solvent 에 의한 PR 의 UV 흡수 방해 제거Soft ... V PR 의 종류에 따라 필요시 시행 (SU-8 에서 불필요 ) V 남아있는 solvent 의 증발 V PR 이 wafer surface 에 밀착을 향상 시킴 V PR 을 굳히기 위해 ... V Substrate 를 회전판 위에 놓고 PR 을 spin coating V Resist thickness depends on - resist viscosity spinning velocitySoft

  리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.11.18

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  [발광디스플레이실험] Photolithography

  현상액으로는 크게 염기성의 수용액과 solvent류가 있다. ... 대부분은 KOH 수용액과 같은 염기 수용액을 사용하지만 SU series와 같은 negative PR은 아세톤이나 특정 solvent를 사용한다. ... 부분이 잘 용해되지 않고 경화되는 resist를 negative resist라 하는데, negative lithography는 이 resist를 이용한다.

  리포트 | 8페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  (Engineering Plastic) MATERIAL SELECTION GUIDE

  Good chemical resistance• Difficult to bond using adhesivesor solvents• Resistant to stress cracking ... • Bond well using adhesives or solvents• Prone to stress cracking• Poor fatigue resistance• Structural ... • Good fatigue resistance• Good for bearing and wear(as well as structural applications)• Best physical

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.14

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  점액세균이 생산하는 항미생물 물질의 추출 및 분석

  배양추출물을 만들 때에 원심분리를 하면 물층과 ethylacetate층으로 나뉘어 지는 것을 볼 수 있는데, solvent의 특성에 의한 것이다. ... C. albicas : 메타실린 내성을 가진 황색포도상구균), 1996년 일본에서 보고된 VRSA(Vancomycin Resistant Staphylococcus aureus : 반코마이신 ... TSA 평판배지는 1.5% tryptone, 0.5% soytone, 0.5% sodium chloride, 1.5% agar로 구성되어 있었다.

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2017.10.19

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  반도체 제조공정 이론 정리

  Soft BakePR에 남아있는 solvent 를 8~90% 정도 제거해주는 과정이다. ... 주요구성성분, 물리적 특성빛에 반응하는 물질로 polymer(Resin), solvent, sensitizer(Photo Active Compound)와 첨가제로 구성된다. ... Wafer에 과도핑한 경우 고온에서 N or P가 튀어나와 오염 가능성이 있으므로, N-type과 P-type을 분리해 사용하는 것이 좋다.DHF Photo Resist란 무엇인가?

  시험자료 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.06.24 | 수정일 2022.10.17

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