"solvent resistance" 검색결과 61-80 / 139건

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  Si TFT공정과 포토리소그래피 공정 조사 레포트

  Positive resists are incompletely exposed if considerable solvent remains in the coating. ... is the step during which almost all of the solvents are removed from the photoresist coating. ... low-exposure energies, the negative resist remains completely soluble in the developer solution.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.23

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  탄소 나노 튜브

  most simple format to disperse The optimum solvent in SWNT solvent is DMF, NMP in Amide system, but ... new solvent It is more simple than other process to make solvent CNT dispersionMethod Advantage Disadvantage ... var der vars power CNT dispersionOrganic solvent The ultrasonic dispersion using organic solvent the

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.11.30

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  photolithography introduction and process details

  on wafer Improves linewidth control during Etch Drives off most of solvent in photoresist Typical bake ... bakeProcess Summary Hard bake is normally performed after post-development thermal bake to vaporize solvent ... Parts can also pile up and cling to the resist sidewalls.

  리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.11.17

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  고분자재료

  Coulombic force High heat stability High ion-conductivity Burning resist Negligible vapor pressureResearch ... ionic liquid electrolyte membrane → PVDF (membrane material) + RTILs (electrolyte) + Common solvent ... Refinement of Best concept - Membrane Material BMlmx PVDF Mixing Common solvent NMP , 1,4-Dioxane RTILs

  리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.05.26

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  [물리학실험] Ba-137m의 반감기 측정실험

  -eluting solvent를 Cs/Ba-137m isotope generator에 조심스럽게 눌러 넣는다.3. ... ”Gate time : 12 s-resister의 “Display”에서 “Settings”를 선택한다:x-axis: t, y-axis: RA1-measuring parameters를 ... 선택한다:-“Automatic Recording”, ”Interval: 100ms”*Ba-137m제작-주사기에 플라스틱 튜브를 끼워 2~3ml의 eluting solvent를 추출한다

  리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.10.04

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  Photo Lithography

  후에 시행되는 hard bake는 남아있는 solvent를 증발시키고 resist를굳히기 위해서 행해진다. ... PEB는 soft bake step 에서 얻은 것과 같은 몇몇 효과를 가져 오게 되는데, 예를 들면 이렇다. resist에 남아있는 4~7% 정도의 solvent를 2~5%정도를 감소시켜준다 ... 위해서 solvent의 끊는점까지 온도를 올리게 된다.

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.07

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  서울대 화학실험 hplc 정리 자료

  점도가 높은 경우 펌프에 압력이 비 이상적으로 높게 걸리는 결과를 가져온다.③시료와의 혼화성(miscibility)의 차이가 15보다 작아야 한다.④시료에는 Good-solvent, ... 정지상에는 Poor-solvent이어야 한다.⑤UV를 흡수하지 안아야 한다.⑥굴절률(Refractive Index)이 낮아야 한다.이동상(용매)은 시료를 너무 빨리 용출시키거나 너무 ... 다음은 적합한 물리적 성질의 조건이다.①유기용매는 HPLC 급으로 매우 순수해야 하고, 물의 경우 저항도(Resistivity)가 18㏁ 이상이어야 한다.②점도(viscosity)가

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.02.18

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  박막재료의표면처리및식각실험(결과).

  (PR) PR을 높은 회전수로 회전시켜 균일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시킨 후 일정온도에서 baking하여 PR의 용제(solvent)를 기화·제거시켜 단단하게 만듦3. ... Si substrateSiO2Si substrateSiO2PR1. Oxidation Layering2. ... : UV 에 노출되지 않은 부분이 남음 Negative resist : UV 에 노출된 부분이 남음PR4.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.23

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  Photolithography 예비보고서

  현상액으로는 크게 염기성의 수용액과 solvent류가 있다. ... 대부분은 KOH 수용액과 같은 염기 수용액을 사용하지만 SU series와 같은 negative PR은 아세톤이나 특정 solvent를 사용한다. ... coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 회전시켜 균일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시킨 후 일정온도에서 baking하여 PR의 용제(solvent

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.07.10

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  포토리소그라피

  현상액으로는 크게 염기성의 수용액과 solvent류가 있다. ... 대부분은 KOH 수용액과 같은 염기 수용액을 사용하지만 SU series와 같은 negative PR은 아세톤이나 특정 solvent를 사용한다.현상이 끝나면 현상과정에서 풀어진 polymer ... PR 현상액 : 자일렌, stoddard's용액세척액 : n-butyl acetate**TFT-array제조 공정 장치*Soft Bake (남은 용제10∼20%제거)낮은 온도 :

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.02

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  GC - 가스크로마토그래피의 이해

  (variable)About -20 degree C from boiling point of solvents1mL/min3mL/minSeptum PurgeSampling time 1min46mL ... *0.25mmI.D.x 30m , df=0.25um1mL/min50mL/min47mL/minCarrier GasＰ100kPa (Constant Pressure)SplitSplit resistance ... *Analysis side column outletReference side column outletA와 B사이에 직류 전압을 걸어둔다Output signal (C와D 사이의 전압

  리포트 | 29페이지 | 4,000원 | 등록일 2013.02.24

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  감광성 폴리머의 제조기술 소개

  따라서 현상속도 등 i-line photoresist의 특성은 resin의 분자구조, 분자량 분포와 함께 PAC의 구조를 변형하여 조절하고 있다. → 수지, PAC, solvent, ... 효과cinnamoyl특 성structurenamePhoto Polymer - 감광기PhotoresistPhoto resist노볼락형 레지스트 화학증폭형 레지스트반도체산업광레지스트 ... 반응이 폭발적으로 진행되게 되어 적은 에너지로도 화학 반응을 일으킬 수 있기 때문에 고감도화가 가능 PAG : iodonium (R2I+ X-) or sulfonium (R3S+

  리포트 | 24페이지 | 5,000원 | 등록일 2010.03.18

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  LCD공정

  Stripping - 증착 필름에 PR 코팅된 부분을 제거 – by spraying organic solvent onto glass substrateLCD 공정 (TFT Array ... Photo Resist coating - Positive - negative4. exposure(한 부분만) – expose the substrate under UV light – ... Spacer spreading - Secures the fixed cell gap when assembling the TFT and CF substrates10.

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.09.07

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  [화학공학실험]성균관대 초산에틸 합성 발표ppt

  specially resistant gloves, such as those made of nitrile rubber * Physical properties - C 2 H 5 OH ... separate (partition) the components of a mixture between two immiscible solvent phases of different ... the components of a mixture between two immiscible solvent phases of different densities.

  리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.03.23

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  폴리비닐알콜의 합성

  .* 특성 : 수용성, resistant to solvents, oil, grease, 셀루로스과 친수성 표면을 가진 재료에 대한 뛰어난 접착력이 있다. ... bml로 한다 순수한 고분자성분을 기준으로 하여 결합된 아세틸기 대신에 초산으로 환산한 무게(%) 및 가수분해도는 다음과 같이 계산할 수 있다.A=0.60×(a-b)F×100/(S× ... P)B=44.05×A/(60.06-0.42×A)C=100-B(mol %)여기서, A:잔존하는 아세틸기를 아세트산으로 환산한 무게%B:잔존하는 아세틸기의 몰%C:가수분해도 몰%S:시료의

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.02.19 | 수정일 2015.09.30

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  포토 예비

  합성수지물질을 녹이는 유기 용제(solvent)등으로 구성되어있다.기본 합성 물질로는 노보락(novolak), 리소울(resole), 페놀수지(phenol formaldehyde) ... 반도체 또는 LCD 제조공정에서의 Photo Resist는 빛에너지에 의해 분해 또는 가교 등이 일어나 그 용해 특성이 변화하는 물질 Photo Resist 위에 원하는 Pattern이 ... Positive Photoresist는 빛에 민감한 반응을 보이는 감응물질(sensitizer), 박막을 형성하는 기본 합성수지물질(resin).

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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  박막의 표면 에칭방법-건식에칭과 습식에칭

  as KOH but, in the negative PR such as SU series, Acetone or specific solvent is used.Wet Etching mask ... Selectivity to other exposed films and resist 3. Uniform and reproducible 4. ... formation ♦ Automation possible ♦ H armful solvents and acid is not necessary ♦ Clean Process because

  리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.03.10

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  이산화탄소 포집 기술 경향과 미래

  Comparison of absorption rates and absorption capacity of ammonia solvents with MEA and MDEA aqueous ... rate of MEA, a high absorption capacity of the DEA, low regeneration energy and resistance of corrosion ... From the results in this study, MDEA and DEEA showed the lowest heat ofabsorption.

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.06.20

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  [OLED, LED] Photolithography를 이용한 ITO Pattern 제작

  현상액으로는 크게 염기성의 수용액과 solvent류가 있다. ... 대부분은 KOH 수용액과 같은 염기 수용액을 사용하지만 SU series와 같은 negative PR은 아세톤이나 특정 solvent를 사용한다.현상이 끝나면 현상과정에서 풀어진 polymer ... PR을 용제(solvent)에 녹이는 과정에서 PR 위에 deposition된 필름은 제거되고 기판 위에 deposition된 필름만이 남게 되는 것이다.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.19

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  방염스티로폴의 제조

  The new synthetic agent was developed without the use of solvent such as pyridine or tertiary amine in ... f/cm2)0.80.8Fire Resistance (sec)1.20.9Absorption test(g/100cm2)0.50.5Conduction of heat(W/m.K)0.03980.0387Table ... the synthesis of DPPAP which served as flame retardant for EPS.2.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.05.18

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