"photoresist" 검색결과 1-20 / 428건

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  Photoresist processing

  이 방법은 Photoresist에는 잘 쓰이지는 않는다. ... 실험 제목: Photoresist processing2. 실험 일자: 2016. 12. 09(금)3. ... photoresist의 방법 ---(4)· Photo 방법빛을 이용한 방법으로서 UV를 주로 사용한다.

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.01.18 | 수정일 2023.01.12

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  Preparation of photoresist-derived carbon micropatterns by proton ion beam lithography and pyrolysis

  한국탄소학회 Hui-Gyun Nam, Jin-Mook Jung, In-Tae Hwang, Junhwa Shin, Chang-Hee Jung, Jae-Hak Choi

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05 | 수정일 2023.04.06

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  Heat Treatment of Carbonized Photoresist Mask with Ammonia for Epitaxial Lateral Overgrowth of a-plane GaN on R-plane Sapphire

  한국재료학회 Dae-sik Kim, Jun-hyuck Kwon, Junggeun Jhin, Dongjin Byun

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05 | 수정일 2023.04.06

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  (특집) 포토공정 심화 정리11편. PR(Photoresist)에대한 이해

  < Photoresist, PR >? ... Photoresist, PR은 반도체 원료인 웨이퍼 위에 도포하는 ‘감광액’이다. ... PR(Photoresist)에대한 이해 >이번시간은 '포토공정에 사용되는 소재 PR, 포토레지스트에 대해서 알아보겠습니다.?

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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  Deep UV Photoresists;Dissolution Inhibitor (Deep UV Photoresists;Dissolution Inhibitor)

  한국유화학회 Sang-Yeon Shim, James V. Crivello

  논문 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  Trihydric Phenol계 Photoresist의 합성과 그 감광 특성

  한국유화학회 홍의석, 고재용, 박홍수

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  Negative Photoresist

  Photoresist..PAGE:7실험 원리2. Photoresist..PAGE:8실험 원리3. Positive photoresist..PAGE:9실험 원리3. ... Negative photoresist..PAGE:12실험 원리5. ... ..PAGE:1Negative Photoresist..PAGE:2목차1. 실험 원리2. 실험 방법3. 시약4. 참고 문헌..PAGE:3실험 방법1.

  리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.12.08 | 수정일 2015.08.21

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  인쇄 제판용 Photoresist의 합성과 G.S법에 의한 감광특성 비교;인쇄 제판용 Photoresist의 연구[II]

  한국유화학회 이기창

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  인쇄 제판용 Photoresist의 잔막수율법에 의한 용해도 비교

  한국유화학회 윤철훈, 황성규, 오세영, 최성용, 이기창

  논문 | 9페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  photoresist, bake

  What ’s Photoresist And N/P Photoresist ? ... PhotolithographyWhat ’s Photoresist ? Photoresist ? ... What is Positive Photoresist different from Negative Photoresist ? What ’s Baking?

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.28

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  포토리소그래피(photoresist)

  [ 개 요 ]포토레지스트(Photoresist)는 설계된 회로를 웨이퍼에 전사시킬 때 빛의 조사 여부에 따라 달리 감응함으로써 미세 회로 패턴을 형성할 수 있도록 하는 노광 공정용 ... 최적의 Develop(현상) Time 구현 실험[ 목 적 ]Photoresist의 기본적이 특성을 알고, Mask layout에 따른 패턴형성과 선폭, 두께, resolution, ... 저배율로 시작 해서 고배율까지 관찰하는데 남은 부분의 선 모양과 선의 굵기를 자세히 관찰하여 현상의 정도를 알 수 있다.[ 결과 및 고찰 ]이번 실험은 Photoresist의 기본적인

  리포트 | 13페이지 | 5,000원 | 등록일 2008.11.30

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  Photoresist 및 Photolithography

  Photoresist가. photoresist의 분류- Positive Photoresist1) 용해 억제형 Photoresist: 2㎛의 최소 선폭이 요구되는 256K DRAM으로부터 ... 있는 최소 패턴 크기를말하는데, 해상력이야말로 Photoresist간의 수준 차이를 명확히 보여주는 성질이다.Photoresist의 해상력은 실제 패턴을 형성시켜 알아낼 수 있는데, ... 0.352㎛의 최소 선폭이 요구되는64M DRAM까지는 NDS 감광제와 NR 수지로 이루어진 Positive Photoresist가주로 이용되고 있다.

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.28

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  PhotoResist coating

  ..PAGE:17.감광액 도포(Photoresist coat)..PAGE:2목 차1) PR 도포의 목적2) 도포 공정3) Photo resist란4) Photo resist의 구성과 ... 종류..PAGE:3Photoresist coat 목적패턴(pattern)형성고집적화..PAGE:4도포 공정 개략도..PAGE:5웨이퍼 세정(wafer cleaning)목적: 이물질 ... 고르게 도포..PAGE:8스핀 코터(Spin Coater)..PAGE:9소프트 베이크(soft bake)감광막 건조도포막의 형태와 두께 균일성유지접착도 향상..PAGE:10PR(Photoresist

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.14 | 수정일 2019.04.09

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  [반도체] Photoresist (PR)

  [Photoresist]거의 모든 정밀 전자, 정보기기들은 고분자 Resist를 이용한 미세가공 기법으로 만들어진 집적회로(integrated circuit, IC) 소자들에 의해 ... 고분자는 필름을 형성하여 이미지 전달을 위한 mask 역할을 하는 Photoresist의 주성분이고, 감광제는 자와선에 민감하게 반응하는 monomer로, exposure에 의해 광화학적 ... 초고해상도 미세가공을 위한 고출력 엑시머 레이저가 개발됨에 따라 고감도 화학증폭형(chemical amplification) Photoresist가 1980년대 초 IBM Almaden

  리포트 | 2페이지 | 무료 | 등록일 2005.04.01

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  [고분자] PMMA (photoresist)

  [PMMA (Polymethyl Methacrylate)]그림. PMMA resist를 이용한 T-gate fabrication과 metal lift-off process1. PMMA의 성질PMMA(Polymethyl methacrylate)는 다양한 microelec..

  리포트 | 1페이지 | 무료 | 등록일 2005.04.01

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  공학 현장 실습 코오롱 Dry Film PhotoResist(DFR)

  Dry Film PhotoResist(DFR)목 차*1. 코오롱 회사 소개2. Dry Film photoResist3. DFR 기술의 원리4. ... 베이스 필름상에 도포한 Photoresist층을 건조 후, 보호 필름을 photoresist층에 laminate를 하여 제조. ... Ehlin, “Dry film photoresist technology for profitable western PCB production”, DuPont.

  리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.02.08

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  [반도체공정] Photoresist 및 OF

  PHOTORESIST 반응 및 최근 개발 동향3-1. Photoresist의 반응3-2. 최근 개발 동향1) RET ( 해상도 향상 기술 . ... PHOTORESIST2-1. photoresist의 분류1) 극성에 의한 분류2) 광반응 메커니즘에 의한 분류3) 노광원에 의한 분류2-2. photoacid generator (PAG ... PHOTORESIST 반응 및 최근 개발 동향3-1.

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.19

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  [재료공학(고분자공학)] 감광성 고분자를 이용한 PR(Photoresist) 공정,고흡수성 수지를 이용한 흡수력 테스트

  재료실험실험보고서감광성 고분자를 이용한 PR(Photoresist) 공정고흡수성 수지를 이용한 흡수력 테스트실험 1. 감광성 고분자를 이용한 PR(Photoresist) 공정1. ... 이용한 PR(Photoresist) 공정을 해 봄으로써 사용되는 고분자의 종류, 광원 등의 차이에 따른 반도체 전사과정을 이해한다.2. ... 특히 광조사 전후의 변화한 용 해도 차를 이용하는 고해상력의 Photoresist는 인쇄판, 전자부품의 제조와 가공 및, 반도체 소자에 이용되고 있다.따라서 본 실험에서는 감광성 고분자를

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.23

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  Photolithography 예비보고서

  Negative photoresist의 차이점Photoresist의 구성요소 중에 PAC가 있다. ... PR 물질은 빛의 반응에 따라 Positive Photoresist와 Negative Photoresist 두 가지 방식으로 분류된다. ... Photoresist의 구분광원의 파장Photoresist13.5 nmEUV193 nmArF 액침248 nmKrF 액침365 nmI-line436 nmg-linePhotoresist

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.12.16 | 수정일 2021.04.08

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  숭실대 Photo-lithography 결과보고서

  실험 목적 : 반도체 공정의 기초가 되는 Photo-lithography의 원리를 이해할 수 있다.Micro(㎛) 스케일의 패턴을 제작하고, 패턴 스케일을 측정할 수 있다.Photoresist ... 시약 및 기기- Si wafer (2.5 x 2.5 cm), 비커 / 피펫, Acetone, IPA (Isopropanol), Sonicator, Spin coater, Photoresist

  리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.10.05

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