"Plasma Nitriding" 검색결과 101-120 / 139건

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  질화물

  고밀도 소결체4) 용도① 이형제, 고체윤활제② 전기절연재, 고열전도 부여제; IC의 Heat Sink 등③ 분말야금 원료, 내열재, 브라운관 유리제조용 치구④ MHD 발전로재, Plasma ... 다이아몬드처럼 입방결정구조를 띠기 때문에 입방정계 질화붕소(CBN:cubic boron nitride)라고도 한다. ... * TiNTi(티타늄)과 N과의 화합물티타늄 나이트라이드(titanium nitride) 질화티타늄, 질소화티타늄고강도 내마모 특성 및 황금빛 색상으로 내마모 부품 및 장식품 등에

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.06

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  Lithography

  Silicon nitride(Si3N4), polysilicon, photoresist, and metals are also routinely used as barrier meterials ... This etching tends to be an isotropic process, etching equally in all directions.Dry etching plasma systems ... Reactive-Ion Etching(RIE) combines the plasma and sputter etching processes.Photoresist removal PR stripper

  리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.01.18

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  [레포트]신소재 공학 파워포인트 자료

  다양한 연료를 사용 할 수 있다.Other CeramicSilicon carbide and silicon nitride 실리콘계열의 세라믹재료는 열전도율이 지르코니아계열 보다 크다. ... Phase One study of an Adiabatic Wankel-type Rotary Engine A NASA study by Dr Harold Sliney (1990) - plasma-sprayed

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.12

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  [반도체][ppt 자료] 박막 증착 방법

  플라즈마 전자빔 건(plasma electron beam guns) 플라즈마를 이용한 전자 방출로 focusing을 임의로 효과적으로 통제할 수 있고 열 전자빔 타입보다 고압에서 사용 ... basket물리 기상 증착법: 증발 증착법증발 증착법의 종류: 열 증발 증착법(유도열 이용) 순수 저항에 의한 방법의 대체로써 내화성 산화물(refractory oxide)와 질화물(nitride ... 플라즈마와 글로우 방전 플라즈마: 양전하(gas+)와 음전하(e-)가 같은 수로 이온화된 가스 플라즈마를 생성, 유지하는 것은 글로우 방전임.

  리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.10.24

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  박막의 제조방법

  플라즈마 보조 PVD(Plasma Assisted PVD)의 분류① DC 과정(가) 다이오드 스퍼터링(Diode Sputtering)(나) 삼극 스퍼터링(Triode Sputtering ... 분류① Thermal decomposition (or pyrolysis) 반응② Reduction 반응③ Oxidation and Hydrolysis 반응④ Carbides 와 Nitrides를 ... 형성하기 위한 반응⑤ CVD의 전조물질6) CVD의 종류① PECVD(plasma enhanced Chemical Vapor Deposition)② Photo-Assisted Chemical

  리포트 | 52페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.12.06

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  스퍼터링

  (plasma)의 기초가 발표되면서 스퍼터링을 일으키는 기체 방전에 대한 조건들을 이해할 수 있게 되었다. ... 박막을 제작할 때 stoichiometric oxide나 nitride, sulfide 등이 필요한 경우 스퍼터링 가스에 O2 나 N2 H2 S등을 첨가하여 스퍼터링을 하게 되는데 ... 넓게 이용되게 된 것은 1930년 이후이다. 19세기말에서 20세기초에 평균자유행로, 전자, X선, 이온화 등의 현대 물리학 기초 이론이 발견되고 1928년 Langmuir에 의해 플라즈마

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.10

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  No.61 탄소강의 열처리에 따른 미세조직변화와 강도 변화

  (Plasma Carburizing), 진공침탄(VaccumCarbur-izing)② 침탄질화(Carbonitriding) : 부품표면에 탄소와 소량의 질소를 동시에 침투시켜표면경화③ ... 부품표면에 탄소의 확산침투에 의한 표면경화예)고체침탄(Solid Carburizing), 염욕침탄(Salt Bath Carburizing), 가스침탄(GasCarburizing), 플라즈마침탄 ... 질화(Nitriding) : 부품표면에 질소의 침투에 의한 표면경화④ 침질탄화(Nitrocarburizing) : 부품표면에 질소와 소량의 탄소를 동시에 침투시켜표면경화⑤ 침붕(Boriding

  리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.12.24

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  [재료공학실험]thermal evaporation system

  -플라즈마 전자빔 건(plasma electron beam guns): 플라즈마를 이용한 전자 방출로 focusing을 임의로 효과적으로 통제할 수 있고 열 전자빔 타입보다 고압에서 ... 증발 증착법 (inductive thermal evaporation deposition)-순수 저항에 의한 방법의 대체로써 내화성 산화물(refractory oxide)와 질화물(nitride

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.03

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  반도체 제조 공정

  /Oxide Etch* RIE – 플라즈마를 이용하여 에칭ppP-wellN-well16.Trench Liner Oxidation15.Resist Strip* Trench liner ... * Wet nitride etch – 인산에 넣고 끓인다.Transistor 생길 부분P-wellN-well25.Blanket Vt Adjust Implant BF2* Nmos와 ... : Polishing이 쉽지 않게 만든다.P-wellN-well23.Wet Oxide Etch (HF)24.Nitride Etch* Wet oxide etch – 20:1 H2O:HF

  리포트 | 33페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.04.09

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  반도체, 진공펌프, TFT

  그러나 이에 못지않게 중요한 물질의 상태가 하나 더 있으니, '제 4의 물질상태'라 일컬어지는 플라즈마(Plasma)이다.플라즈마는 기체의 특별한 상태로 볼 수도 있으므로 네 가지의 ... 하나인 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel)에 대한 연구가 수해오디고 있고, 장기적으로는 21세기에 들어 요구되는 에너지, 신재료, 반도체 소자 제조, 환경분야 ... Getter pump티타늄(Ti)과 같이 화합물 형성이 쉬운 물질을 필라멘트나 덩어리 형태로 가열하여 진공 펌프 벽에 증착하면, 펌프내로 들어온 가스와 hydride, oxide, nitride

  리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.04.01

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  [생산공학] 철강재료의 열처리

  부품을 질화 온도로 가열하여 24 ∼ 72시간 동안 유지한 다음 퀜칭하여 표면경화 시키는 처리라) 플라즈마질화, Plasma Nitriding처리 부품을 원자가 규칙적인 배열을 ... , Plasma Carbonitriding진공로 내에 저압으로 유지된 메탄과 질소의 혼합가스에 의하여 형성된 플라즈마 분위기 속에서 처리 부품을 850 ∼ 950℃ 사이의 온도로 가열하여 ... Carbonitriding가스침탄 분위기 가스에 암모니아를 3 ∼ 8% 첨가시킨 가스 분위기 속에서처리 부품을 침탄질화 온도로 가열하여 일정시간 동안 유지한 다음 퀜칭하여표면경화 시키는 처리다) 플라즈마침탄질화

  리포트 | 27페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.06

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  표면처리(도금, 탈지, 산처리)

  만드는 방법으로서, 용도로서는 각종 금속, TiN, TiC등으 로 내열, 내마모성 피막생성, 금색 코팅에 사용된다.(7)음극 스퍼터링(Cathode Sputtering): 진공 내 플라즈마 ... 용도로서는 각종 플라스틱 장식품, 장신구, 렌즈등에 사용된다.(5)침투 도금(확산도금): 금속에 다른 금속을 확산침투 시켜서 합금의 피막을 만들어 주는 방법(Carburizing, Nitriding

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.10.25

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  [반도체 공학] pvd의 종류및 증착원리

  각각의 반응성 가스를 이용해서 다음과 같은 박막들을 형성할 수 있다.① Oxides (oxygen) : Al2O3, In2O3, SnO2, SiO2, Ta2O5② Nitrides ( ... 그 이유는 이 진동수가 국제적으로 플라즈마 공정에 허용되었기 때문이다. ... 특히 공구나 금형 등의 하중과 충격이 큰 부품은 밀착력을 올리기 위해 플라즈마 클리닝과 이온충격공정을 반드시 하여야 한다.

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.09.30

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  반도체 공정

  for isolationSi, (100), P type, 5-50Ω㎝Shallow trench isolationVoid 가없이 oxide층이 열적으로 trench 내에 형성하며 nitride는 ... 한다N-wellP-wellNPN+P+NPSiO2TiNWN-wellP-wellNPN+P+NPSiO2Multilevel metal formationAl을 증착후 photoresist를 써서 plasma로 ... regions를 형성N-wellP-wellNPN-implantPhosphorusTip or extension formationConformal spacer 유전 layer를 LPCVD로 증착 Plasma에

  리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.03.19

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  표면관찰 실험

  열부식의 경우 재료에 따라 노의 분위기는 상태 조절이 필요한데 예로서, silicon nitride 의 경우는 SiO2로의 산화를 막기 위해 진공상태 혹은 질낸다. ... Etching은 화학조성, 응력, 결정구조 등에 따라 방법이 다른데 가장 일반적인 방법은 화학부식 방법이며 이외에도 molten salt방법, 전해부식, 열 및 plasma 부식 방법등이

  리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.03.15

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  [재료공학실험] CVD와 PVD

  사용플라즈마 몰리나 플라즈마 화학은 고압영역으로 부터 글로우 방전, 불꽃방전,태양코로나등에 이르는 광범위한 상태를 다루고 있다, 여기서 논하고자 하는 것은 Plasma인데 이것은 ... Plasma CVD3 Uncoated toll 보다 크게 우세하고 산업에의 적용성이 빨라진 Titanium carbide와Titanium nitride CVD-coated carbide ... CVD(화학 기상 증착법)공정의 개요외부와 차단된 반응실 안에 Substate(기판)를 넣고 Gas를 공급하여 열, 플라즈마, 빛(UV or LASER), 또는 임의의 에너지에 의하여

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.17

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  반도체공정 (Metallization)

  이는 보통 deposited oxide, silicon nitride 나 polymide film으로 구성되어 있다. ... anti-reflective coating을 위해서 deposition 된다.4.11th mask,Metal etchPR을 이용해서 패턴을 만든 후, 세 번째 metal stack은 plasma

  리포트 | 18페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.01.27

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  금속 부식액의 종류

  Etching은 화학조성, 응력, 결정구조 등에 따라 방법이 다른데 가장 일반적인 방법은 화학부식 방법이며 이외에도 molten salt방법, 전해부식, 열 및 plasma 부식 방법 ... 열 부식의 경우 재료에 따라 노의 분위기는 상태 조절이 필요한데 예로서, silicon nitride의 경우는 SiO2로의 산화를 막기 위해 진공상태 혹은 질소나 아르곤의 불활성 상태를

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.09

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  PVD, CVD 그리고 Nucleation

  사용플라즈마 몰리나 플라즈마 화학은 고압영역으로 부터 글로우 방전, 불꽃방전, 태양코로나등에 이르는 광범위한 상태를 다루고 있다, 여기서 논하고자 하는 것은 Plasma인데 이것은 ... Plasma CVD③ Uncoated toll 보다 크게 우세하고 산업에의 적용성이 빨라진 Titanium carbide와Titanium nitride CVD-coated carbide ... CVD(화학 기상 증착법)공정의 개요외부와 차단된 반응실 안에 Substate(기판)를 넣고 Gas를 공급하여 열, 플라즈마, 빛(UVor LASER), 또는 임의의 에너지에 의하여

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.23

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  [공학기술]ion plating(이온도금)

  Mattox가 처음으로 도입하였지만[13] , 역사적으로 볼 때, 구조적으로 좀더 완벽하고 우수한 기판 접착력을 갖는 막을 형성하기 위하여 기판을 음으로 바이어스(bias)시켜 플라즈마 ... droplet은 약 3 μm의 직경을 가질 수 있으며, droplet의 수와 크기는 소스 재료의 융점이 증가할수록, 그리고 융점에서의 증기압이 증가하고 spot의 이동 속도와 surface nitridation이

  리포트 | 26페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.06.08

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