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"스퍼터링 고찰" 검색결과 61-80 / 82건

  • mram동작원리
    이상의 문제를 회피하기 위해 서는,종래 DRAM의 구조를 상세히 고찰할 필요가 있다. ... 이러한 연구의 결과 상온에서 통상의 스퍼터링 방법에 의해 제조된 TMR 소자에서 40% 이상의 MR비가 얻어졌다.
    리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.31
  • [열처리] 열처리 온도에 따른 비저항 변화 및 silicide 형성
    실험 결과 및 고찰4-1. 열처리온도에 따른 비저항곡선을 plot 하시오. ... 방법에 비하여 극히 빠르게 코팅할 수 있으며, 이온 스퍼터링은 코팅층의 합금성분과 피복율을 쉬게 조절할 수 있다. ... 반응에 의해 생성되는 복합물을 코팅시키는 것도 포함시키고 있으며, PVD를 일반적으로 진공코팅이라 부른다.고체 재료를 증기상으로 만드는 방법에는 진공에서 증발시키는 방법과 이온 스퍼터링
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.15
  • 플라즈마 중합, 플라즈마 처리, 표면 개질,
    결과 및 고찰 ??????????????????????????????????????????????211. ... 뿐만 아니라, 반도체 분야에서는 에칭과 스퍼터링에 의한 식각 공정에서 널리 사용되기도 한다.플라즈마 공정의 장점으로는 다음과 같다.- 건식 공정으로서 습식 공정에서 발생되는 환경 오염
    리포트 | 63페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.08.05
  • [고체및재료실험]표면관찰
    이 실험은 steel의 annealing 유무에 따라 etching 시에 그 정도를 관찰하여 비교, 고찰 해 보고자 하는 실험이다.2. ... 스퍼터링방식의 건식에칭에서는 스퍼터링된 기판재료가 꼭 휘발성의 물질이 아니기 때문에 이온이 입사된 부근에 부착되기 쉬우므로 주의해야 한다. ... 그러나 이온빔(ion beam)을 이용한 스퍼터링(sputtering)법과 같은 물리적 에칭을 이용하면 그 단면형상은 그림 1(b)와 같이 된다.
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.10.06
  • SEM(주사전자현미경)의 미세먼지 실험
    논의 및 고찰1. ... 따라서, 세라믹이나 고분자 등의 부도체시료는 탄소막의 진공증착이나 금-팔라듐을 스퍼터링(sputtering)하여 전도성 코팅을 하여야 한다.
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.04.14 | 수정일 2017.04.06
  • [실리콘직접회로] 산화실리콘 열산화의 변화 실험 및 고찰
    「산화실리콘 열산화의 변화 실험 및 고찰」1. 실험목적시간과 온도의 변화에 따른 SiO2성장에 대한 건식 및 습식 열산화의 차이와 전기적 특성을 C-V곡선을 통해서 알아보자.2. ... 스퍼터링법은 산화물 타겟을 쓰는 경우, 알곤 스퍼터링에 의해서 양질의 세라믹스 박막을 쓰는 경우, 알곤 스퍼터링에 의해서 양질의 세라믹스 박막을 형성할 수 있지만, 대형 타겟 제조가 ... {스퍼터링법은 플라즈마, 이온법, 아크등을 사용하여 타겟 물질을 스퍼터하여 기판에 세라믹스 박막을 형성하는 방법이다.
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.09.06
  • 구리동전의 도금
    음극 스퍼터링 : 진공 내에서 양이온의 입자로 음극물질을 때림으로써 음극물질이 튕겨나온 것이 진공내의 피도금물체에 피막을 만든다. ... 실험 하기 전 이론적 고찰♣ 도금이란?금속의 표면이나 비금속표면에 다른 금속을 사용하여 피막을 만드는 처리이며, 처리 방법으로서는 전기도금, 화학도금, 용융도금.
    리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.06.04
  • 반도체 제조 공정
    PVD법은 화학 반응을 수반하지 않는 증착기술로서 주로 금속 박막의 증착에 사용되며, 이에는 진공 증착(vacuum evaporation)법과 스퍼터링(sputtering)법 등이 ... HSiSiH3 + H2(g) (1.5)위의 기상 반응들은 정반응(forward reaction)과 역반응(backward reaction) 속도를 각각 가지는 반응들로서 이에 대한 고찰
    리포트 | 15페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.05.01
  • [방막공학] 박막제조
    스퍼터링된 원자들은 운동량 전달에 의해 비교적 높은 운동에너지를 가지므로 기판 표면에서 증착층을 형성할 때 열역학적으로 안정한 위치로 표면확산이 일어나게 되며, 따라서 치밀한 조직을 ... 스퍼터링 공정에서의 증착n은 금속재료를 증착시키기 위해 고진공(5x10-5 ~ 1x10-7torr)에서 전자빔이나 전기 필라멘트를 이용해 보트를 가열하여 보트위에 금속을 녹여 증류시키는 ... 결과 및 고찰1) 결과 및 계산1 막의 두께 : 6752 막의 저항 : 967.5 m /square3 비 저 항{(967.5` TIMES ` { 1.0`m Omega } over {
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.04
  • [소자실험]전자재료소자실험-무기EL제조
    전극층 사이에 있으며, 여기서 전극은 기판으로부터 지지되며 기판은 유연한 플라스틱으로 구성되어 있다.전면 전극은 일반적으로 PET 기판 위에 Indium tin oxide(ITO)가 스퍼터링 ... Electro Luminance 소자의 제조§목적① Inorganic Electro Luminance 소자의 동작원리를 이해하고 소자를 직접 제조 해봄으로써 적층구조에 따른 상관관계를 고찰해보고 ... 발광의 정도가 어느 정도 차이가 나는지 관찰해 본다.② 발광의 정도가 차이가나는 이유를 고찰해 봄으로써 소자에 직접적으로 쓰이는 발광층, 유전층, 전극 부분에 들어가는 시료의 상관관계
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.04.17
  • [재료공학]Ion Plating ( 이온플레이팅 )
    (그림 6.4(b))* 이온화에 대한 고찰ion-plating에서는 막의 특성을 향상시키기 위해서 고려해야 할 몇 가지 현상이 존재한다. ... Mattox는 이것을 ‘증착전이나 증착과정 중에 고에너지의 이온으로 형성되는 유속에 의해 지배되는 증착법‘이라고 풀이하였다.이온플레이팅도 스퍼터링과 비슷하게 플라즈마를 사용한 증착공정이지만 ... 스퍼터링과는 달리 보통 증착하고자 하는 물질을 증발 법으로 기상화한 뒤 reactive gas나 불활성 기체들과 함께 이온화하여 음의 전압이 가해진 기판으로 가속하므로 기판의 표면이나
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.11.06
  • 박막의 표면처리 및 식각 실험 예비보고사
    본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화 등에 대하여 고찰하고자 한다./3. ... 방전관표면개질네온사인플라즈마 CVD전기레이져플라즈마 에칭오존발생기플라즈마디스플레이(태양전지, LCD, LSI연소배기가스천리자외선원DRAM 등의 제작)유기용매처리X선원자동차의 배기가스처리이온빔원스퍼터링로켓
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.04
  • [공업화학실험] Electroplating 실험 - 예비
    구리의 전해 정련 실험을 해본다.(2) 도금의 종류와 특징에 대해서 알아본다.(3) 산화 및 환원 그리고 전기분해의 원리를 이해한다.(4) 도금에 영향을 주는 요인들이 무엇인지 고찰한다.electrode ... )로 이온화시키고, (-)로 가속하여 음극소지에 피막을 만드는 방법으로서, 용도로서는 각종 금속, TiN, TiC등으로 내열, 내마모성 피막생성, 금색 코팅에 사용된다.7) 음극 스퍼터링
    리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.09.15
  • [공학]반도체 박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거
    본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화 등에 대하여 고찰하고자 한다.■ 실험 내용- 가장 ... 또한 공구의 내마모 코팅, 장식용 코팅, 반도체 소자의 제조시 접점에서 확산장벽으로 이용되는 TiN은 Ti의 반응성 이온 플레이팅이나 스퍼터링, PECVD 방법등을 통해 건식법으로
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.15
  • [전자재료실험]MOS캐패시터
    결과 및 고찰1) C/V 그래프2 곡선 ... PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.06.20
  • 니켈도금
    결과 및 고찰--------------------------------------------43Ⅳ. ... 고대의 도금은 아말감을 칠하고 수은을 증발시키.7 음극 스퍼터링(Cathode Sputtering)??
    리포트 | 48페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.10.17
  • [반도체공정] 화학기상증착
    이러한 박막의 형성은 근본적인 측면에서 고찰하자면 기판 표면과 기상으로부터 공급되는 기상원료의 화학반응으로서 반응의 생성물이 고체상인 화학반응에 의한 것이다. ... PVD법은 화학 반응을 수반하지 않는 증착기술로서 주로 금속 박막의 증착에 사용되며, 이에는 진공 증착(vacuum evaporation)법과 스퍼터링(sputtering)법 등이
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.29
  • [화학공학] [실험보고서]박막의표면처리 및 식각 보고서
    본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른 박막의 표면과 두께의 변화 등에 대하여 고찰하고자 한다.3. 실험내용? ... SiO2, PSG, BPSG Si3N4 등의 절연막, 폴리실리콘막 및 W 등의 금속막은 CVD법에, A1, TiN 등의 금속 또는 도전성 막은 PVD법인 스퍼터링(Sputtering
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.06.14
  • [정보저장기기]자성박막기술의 정보저장기기 응용
    자기기록방식을 이용한 정보저장기중요한 분야인 자성을 이용한 기록/저장방식으로의 자기헤드기술과 자기기록매체기술, 그리고 비휘발성 MRAM소자에 대한 고찰을 통해 앞으로의 기술발전 전망을 ... 자기를 이용한 초고밀도 기록/저장 기술2.1 재생 헤드용 거대 자기저항 기술Fe/Cr다층박막에서의 50%이상의 거대자기저항 효과가 학계에 보고된 이후 IBM에서 스퍼터링 공정을 이용하여
    리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.12.29
  • 반도체 제조공정
    이러한 박막의 형성은 근본적인 측면에 서 고찰하자면 기판 표면과 기상으로부터 공급되는 기상원료의 화학반응으로서 반응의 생 성물이 고체상인 화학반응에 의한 것이다. ... 이러한 스퍼터링의 장 단점은 아래와 같다.장 점-. 넓은 면적의 target을 사용할 경우 wafer 전 면적에 걸친 고른 박막의 증착이 가능.-. 박막의 두께 조절이 용이.-. ... 수 있는 부생성 물은 기판 표면으로부터 탈착하여 경계층 밖으로 확산이 되면서 제거된다..PVD (Physical Vapor Deposition)(1) 스파터링(sputtering)스퍼터링
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.10.15
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- 국내의 사물인터넷 상용화 사례를 찾아보고, 앞으로 기업에 사물인터넷이 어떤 영향을 미칠지 기술하시오
5글자 이하 주제 부적절한 예)
- 정형외과, 아동학대