"스퍼터링 고찰" 검색결과 41-60 / 82건

• 

  플라즈마 이온질화 실험 보고서

  이용, 대표적 질화강인 SACM645와 보편적으로 사용되는 SCM4 구조용강을 질화시켜 그 특성을 비교하고 추가로 시간의 변수를 두어 질화층 형성에 대한 처리시간의 영향에 대해 고찰해보고자 ... 처리는 질화처리를 하기 전 시편 표면의 산화피막 또는 C, O2 를 제거하는 효과가 있다.따라서 Ar, H가스 장입 후 전압을 올리면 글로우 방전이 발생하는데 이 상태로 1시간동안 스퍼터링 ... 깨끗해야한다.따라서 질화처리 전 Sand paper #1500이상까지 연마한다.2) Spattering음극 강하에 의해 가속된 ion이 고체에 충돌하여 표면의 분자나 원자가 외부로 방출된다.이 스퍼터링

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.12.22

  다운로드 장바구니
• 

  산화공정 (Oxidation)

  HSiSiH3 + H2(g) (1.5)위의 기상 반응들은 정반응(forward reaction)과 역반응(backward reaction) 속도를 각각 가지는 반응들로서 이에 대한 고찰에 ... PVD법은 화학 반응을 수반하지 않는 증착기술로서 주로 금속 박막의 증착에 사용되며, 이에는 진공 증착(vacuum evaporation)법과 스퍼터링(sputtering)법 등이 ... hydroxyl을 형성1/2H2 + O - Si ↔ Si - OH산화 막의 성장방법에는 여자가지가 있는데 온도로서 구분 지어진다.200도 이하 - 양극 산화- SiO2 진공증착- 스퍼터링

  리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.05.10

  다운로드 장바구니
• 

  MEA & CNT 기술과 특허

  목차실험목적 실험이론 실험방법 실험고찰 참고문헌탄소종이에 CNT Growth 기술을 토대로 새로운기술 생각해보자 !! ... particle아크방전법기술코로나 방전법레이저증착법화학기상증착법열분해법HIPCO화학기상증착법탄소를 포함하고 있는 탄화수소기체와 기판으로는 전이금속이 사용됨, 따라서 성장 이전에 스퍼터링이나

  리포트 | 17페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.05.10

  다운로드 장바구니
• 

  CVD법에 의한 CNT의 증착 및 특성

  결과 및 고찰4-1. ... 스퍼터링(Sputtering)183. 실험 방법 및 분석193-1. Magnetron Sputtering실험 장치193-2. HF-CVD 실험장치213-2-1. ... 결과 및 고찰384-1. Si wafer의 전처리384-2. 나노 미립자 철촉매 형성384-3. CVD법에 의한 CNT 박막 형성404-3-1.

  리포트 | 73페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.05.10

  다운로드 장바구니
• 

  Si wafer의 Oxidation

  두께측정은 색도표 또는 엘립소미터를 이용해서 측정할 수 있다.실험결과 및 고찰1. ... -스퍼터링 : 진공 속에서 고에너지 이온가스 분자가 석영으로 된 음극 표적 재료에 충돌하여 SiO₂를 떼어낸 뒤 양극에 위치한 실리콘 웨이퍼에 증착시킨다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.21

  다운로드 장바구니
• 

  Sputtering 방법을 통해 증착한 Cu-Ti 박막의 후 열처리 온도에 따른 Cu-Silicide 형성과 비저항의 미치는 영향과 특성 평가 실험

  고찰- 이 실험에서는 비저항이 제일 낮은 Cu를 사용해 박막을 만들었다. ... .- 기판이 과열되기 쉽다.2) RF SputteringDC sputtering에서는 target이 산화물등 절연물체일 때는 스퍼터링이 되지않는다. ... 그러나 고주파(RF : radio frequency)를 사용하면 절연체도 스퍼터링이 되며 1/1000 ~ 1/10000 torr 같은 저압에서도 플라스마가 유지될 수 있다.보통은 13.56MHz의

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.25

  다운로드 장바구니
• 

  마이크로 표면

  새로운 응용 분야가 활발히 개척되고 있다.또한 공구의 내마모 코팅, 장식용 코팅, 반도체 소자의 제조시 접점에서 확산장벽으로 이용되 는 TiN은 Ti의 반응성 이온 플레이팅이나 스퍼터링 ... 친수성 (hydrophilicilty)와 소수성(hydrophobicity)을 알아보고 이의 마이크로 디바이스로의 응용과 표면개질( suirface modification)에 대하여 고찰해 ... 평균을 적는다.(3) 실험에 사용된 substrate의 표면특성을 실험 결과인 CONTACT ANGLE, 친수성/가수 성, wettability(습윤도), adhesion측면에서 고찰하시오

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.06.24

  다운로드 장바구니
• 

  마이크로 표면측정2

  음향기기등 새로운 응용 분야가 활발히 개척되고 있다.또한 공구의 내마모 코팅, 장식용 코팅, 반도체 소자의 제조시 접점에서 확산장벽으로 이용되는 TiN은 Ti의 반응성 이온 플레이팅이나 스퍼터링 ... 표면의 친수성(hydrophilicity)와 소수성(hydrophobicity)을알아보고 이의 마이크로 디바이스로의 응용과 표면개질(surface modification)에 대하여 고찰해 ... 고찰1) 실험에 사용된 Substrate 종류 Vs Static contact angle의 그래프를 작성하시오.3) 실험에 사용된 substrate의 표면특성을 실험결과인 cont

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.06.24

  다운로드 장바구니
• 

  [금속재료공학]스퍼터링

  결과 및 고찰이번 실험은 스퍼터링 으로서 진공 챔버 내에서 플라즈마의 원리를 이용하여 기판 (glass)에 박막을 입히는 실험이었다.이것은 PVD 원리를 이용한 물리기상증착 방법의 ... sputtering)△ 직류 인가 스퍼터링 시스템가장 간단한 스퍼터링 구조로서 전도성 물질의 스퍼터링에 사용된다. ... 주파 스퍼터링(radio frequency-sputtering)△ 라디오 주파 스퍼터링 시스템직류 인가 스퍼터링의 가장 큰 단점은 절연물질의 증착이 불가능하다는데 있다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.15

  다운로드 장바구니
• 

  MEMS (Micro Electro Mechanical Systems)

  PVD법은 화학 반응을 수반하지 않는 증착기술로서 주로 금속 박막의 증착에 사용되며, 이에는 진공 증착(vacuum evaporation)법과 스퍼터링(sputtering)법 등이 ... 검은 부분이(패턴)이 변형이 생길것을 우려하여) 다시 에탄올에 넣는다.23) 다시 뺀 다음 DI Water 에 씻고 질산건으로 물기를 제거한다.실험결과 및 고찰실험 시 3명씩 나눠서 ... 여기가 후반에 한 부분의 고찰 및 결과를 적은 것이고 전방에 있어 3명의 실험시 액체의 미숙하게 다루어 흘리고 노광을 비출때 기계의 다루는 능력이 부족했다고 본다.결과적으로 부주의와

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.12

  다운로드 장바구니
• 

  [금속재료공학]FCCL

  NiCr의 부착력일정하게 유지되는 구간 : 5-15sec구간의 평균값 : 330g부착력 : 330(g) / 5(mm) = 66고찰이번 실험은 PI 판 위에 구리 스퍼터링을 하여 부착력을 ... 결과 및 고찰? 부착력 그래프 (80Ni-20Cr)? ... 그러나 스퍼터링 을 이용하여 그 정도 두께의 박막을 입히려면너무나 많은 시간이 소요되기 때문에 편의상 스퍼터링을 이용한 박막은 약 500㎚ 정도 입히고그 다음에 구리 도금을 이용하여

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.12.08

  다운로드 장바구니
• 

  [금속공학실험]ZnO박막 실험

  ) 다이오드 스퍼터링(Diode Sputtering)나) 삼극 스퍼터링(Triode Sputtering)다) 자기 스퍼터링(Magnetron Sputtering)라) 이온빔 스퍼터링 ... 방법에 비하여 극히 빠르게 코팅할 수 있으며, 이온 스퍼터링은 코팅층의 합금성분과 피복율을 쉬게 조절할 수 있다. ... 스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며[3], 현재는 여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.25

  다운로드 장바구니
• 

  pvd 실험 보고서

  1.실험제목 : PVD 실험2.실험목적 : PVD 실험을 통한 증착방법을 이해하고 고찰한다.3.실험의 이론평균자유행정(平均自由行程)이라고도 한다. ... 또한 이 방법은 스퍼터링효과와 높은 운동에너지 때문에 피막과 기지와의 밀착성이 우수함은 물론이고, 피막생성속도가 높은 것이 장점이다.표 5-6에는 각종 물리증착법의 종류와 그 장단점을 ... CVD법보다는 빠르지만 대면적화가 곤란하여 이것을 고려한 레이저광원이나 장치구성 개발이 필요하다.물리증착(PVD : Physical Vapor Deposition)이란 진공증착, 스퍼터링

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.03

  다운로드 장바구니
• 

  [공업화학실험] 식각실험 예비보고서

  본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른박막의 표면과 두께의 변화등에 대하여 고찰하고자 한다.3. ... 대해 도식적으로 보여주고 있다.물리적 증착에는 진공 중에서 재료의 온도를 높여 증발시키는 진공 증착과 플라스마내의 이온이 증착 재료인 타깃을 때려 타깃재료가 떨어져 나와 증착되는 스퍼터링이

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.07.23

  다운로드 장바구니
• 

  박막제조

  기상 증착법광전자 화공소재 실험 -■ 건 식- PVD(Physical Vapor Deposition)PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam ... 특성(면저항, 비저항 등)을 측정 후 특성을 관찰하여 기록한다.④ 측정값을 결과 보고서에 적고 막의 두께의 평균과 그 균일도를 계산하고 위치에 따른 차이점을 논의한다.[ 결과 및 고찰

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.11.30

  다운로드 장바구니
• 

  광통신공학 설계 발표수업 자료 - LED 광방출 효율 향상 방안

  보호 층에 알루미나, 질화 규소 및 석영 등을 성장하기 위한 플라즈마 화학 기상 증착법(PECVD ; Plasma Enhanced CVD) 등이 이용되고, 경면처리 등을 위하여 스퍼터링법 ... 관련 보도 자료 참고 자료 결론 및 고찰*3 4 4 10 15 18 20 21서론기본적인 P-N 접합 다이오드를 이용, 전자와 정공이 충돌할 때의 에너지를 빛으로 내는 원리를 이용한 ... 한국과학기술정보연구원 ) 논문 : LED 고효율, 고출력을 위한 제작단계별 연구개발 동향 (한국과학기술정보연구원 ) 네이버 카페 : http://cafe.naver.com/guzen*결론 및 고찰앞서

  리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.03.25

  다운로드 장바구니
• 

  박막 증착과 4-point probe 의 이해

  실험고찰- 이번 실험은 4-point probe를 이용해서 면저항을 측정해보는 실험이었다. 먼저 저항은로 나타낼 수 있다. ... 실험이론PVD (Physical Vapor Deposition)PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 ... 등을 형성하게됩니다.박막증착은 특히 반도체산업에서 핵심적인 분야인데 그동안 이온 빔(ion-beam),전자 빔(electron-beam) 또는 RF(Radio-Frequency) 스퍼터링

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.09

  다운로드 장바구니
• 

  [박막] RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 ZnO박막에 관한 연구

  제조 하였으며, HP 8753C network analyzer를 이용하여 주파수 응답, 임펄스 특성, 군지연 특성을 고찰하였다. ... ----------------------------- 1제 2 장 실험 방법 -------------------------------------------- 3제 3 장 결과 및 고찰 ... 본 장비는 타게트의 효율과 제조한 박막의 평활도를 높이기 위하여 스퍼터링시 타게트 뒷면에 부착한 자석이 회전하도록 고안되었다.

  리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2004.12.05

  다운로드 장바구니
• 

  스퍼터링 증착

  실험이론1) 스퍼터링이란? ... 이는 대부분의 에너지가 열로 방출되고 극히 일부의 에너지만이 스퍼터링에 이용된다는 것을 의미한다. ... 스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며[3], 현재는 여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다.

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.03.26

  다운로드 장바구니
• 

  Sputtering 방법을 통해 증착한 Cu/Ti 박막의 후열처리 온도에 따른 Cu-silicide형성과 비저항에 미치는 영향의 특성평가실험

  고체 표면과의 반응.① 이온반사② 전자방출: 2차전자(secondary electron)③ 이온주입④ Radiation damage⑤ 스퍼터링(2) 스퍼터링 원리스퍼터링 과정: 이온 ... 저온 증착이 불가능하며 불균일한 스퍼터링이 이루어진다.④ Magnetron 스퍼터링 - DC 스퍼터링과 비슷, cathode에는 영구자석 장착, target 표면과 평행한 방향으로 ... 기판에 입사하는 전류 밀도가 매우 낮다.⑥ 6) 반응성 스퍼터링 - 금속 target 을 이용하여 스퍼터링 할 때 불활성 가스와 동시에 반응성이 있는 가스 동시 주입.

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.26

  다운로드 장바구니