"rf sputtering" 검색결과 1-20 / 304건

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  RF sputtering

  RF sputtering(1) sputtering plasma 발생 oscillating power source를 사용하므로 DC방법보다 많은 장 점이 있다.- 부도체재료를 sputter ... biode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron sputtering다음 두 가지 방법이 기본이다.(1) metallic cathodetarget은 ... 이용하여 절연막을 증착시키는 방법도 사용된다.거의 모든 물질이 RF discharge에서 sputter되지만, 생성된 막이 target의 조성과 반드시 일치하지는 않으며, 금도착하는

  리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  RF reactive magnetron sputtering으로 제조한 TiO2 박막의 구조 및 광학적 특성

  한국재료학회 강계원, 이영훈, 곽재천, 이동구, 정봉교, 박성호, 최병호

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF magnetron sputtering법에 의해 제조된 SrBi2Ta2O9박막의 강유전 특성에 관한 연구

  한국재료학회 박상식, 양철훈, 윤순길

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  연속 ECR-CVD 조업하에 RF-magnetron-sputter의 싸이클조업을 통해 PET위에 올려진 구리박막의 특성

  한국재료학회 명종윤, 전법주, 변동진, 이중기

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF sputtering

  이러한 현상 때문에 부도체를 sputtering, etching 등을 할 때는 교류전원을 사용한다. ... Plasma(RF Sputtering)a. basic concept플라즈마 상태는 고체, 액체, 기체 이외의 물질의 제4의 상태라고 불리워진다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.06

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  Fabrication and Electric Properties of LiNbO3 Thin Film by an Rf-magnetron Sputtering Technique Li-Nb-K-O Ceramic Target (Rf-magnetron sputtering 방법으로 Li-Nb-K-O 세라믹 타겟을 사용하여 제작한 LiNbO3박막의 제작 및 전기적 특성)

  한국재료학회 Park, Seong-Geun, Baek, Min-Su, Bae, Seung-Chun, Gwon, Seong-Yeol, Kim, Gwang-Tae, Kim, Gi-Wan

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가

  박막을 입히는 방법이다.④ magnatron sputtering : 자기장을 이용하여 플라즈마 속에서 sputtering 하는 방법으로 이 방법은 효율이 매우 높다.○ RF sputtering① ... 이용하여 substrate에 박막을 입히는 것이다.② RF sputtering : 교류전지에서 플라즈마를 이용하여 Sputtering을 하는 방법으로 금속 target뿐만 아니라 ... 실험 예비 REPORT━━━━━━━━━━(RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가)소 속재료공학부담당교수교수님학 년3학년분 반003학 번200423156이

  리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.01.25

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  RF Sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착 레포트

  실험 원리a) rf sputteringrf sputtering은 dc sputtering과 달리 금속외에 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 target에도 sputtering이 ... RF Sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착김OO1. 실험 제목 : rf sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착2. ... 흐르게 설정후 잠시후 gas를 chamber안에 흐르게 한다.(1sccm=1cc/min의 gas flow)AC power를 켜주고 rf power를 키고 40w로 설정하고 플라즈마가

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.11.06

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  반도체 공정 term project

  RF Sputtering방법은 target이 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하며 주로 13.56MHz의 고주파 전원을 사용한다.I. ... DC/RF sputteringAbstarct(혹은 초록)Sputtering은 Chamber내에 공급되는 가스에서 발생되는 전자 사이의 충돌로부터 시작된다. ... 이러한 현상을 물리학에서는 “sputtering”이라고 말한다.1)DC 스퍼터링1.

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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  학부생 연구프로그램 보고서

  업무 수행의 경과 및 결과ExperimentalMo 기판은 RF sputtering 방법으로 소다석회유리 위에 증착하였다. ... 학부생 연구 프로그램 결과보고서실 습 자 : 학번 2011 성명 김OO지도교수명 : 이OO 교수님기 간 : 12. 12. 26 ∼ 13. 02. 08내 용 : CIGS 전착을 위한 sputtering ... 최근 연구에 따르면 진공방식을 이용하여 변환 효율을 20%까지 향상시키는데 성공했고 이로써 실리콘 태양전지와 비슷한 변환 효율에 도달했다.소다석회유리에 sputtering 방법으로

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.10.31

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  2019 상반기 LG 디스플레이 R&D 자기소개서

  실험에서 사용한 장비는 DC/RF Sputter입니다. 이 장비에서 에너지를 공급하는 방법은 크게 두 가지로 RF Power와 기판 온도입니다. ... 이에 RF Power를 변경하여 광투과도를 70%까지 향상했습니다. 여기서 실험을 종료하지 않고, 더 높은 광투과도를 위해 기판 온도도 변경했습니다.

  자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.18

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  Evaporator_Sputter 레포트

  DC Sputtering 구조 [5]또한, RF 스퍼터링에 비해서 증착 속도가 빠르고 박막의 균일도가 크며, 밀착 강도가 높다는 장점이 있다. ... DC 스퍼터링에서는 타켓이 산화물이나 절연체일 경우에는 스퍼터링이 되지 않으나, RF 스퍼터링에서는 해결이 가능하고 낮은 Ar 압력에서도 플라즈마가 유지될 수 있다. ... 또한 박막이 전자나 UV, 이온 등에 노출되어서 가열되고 증착 조건이 민감하고 서로 영향을 끼친다는 점이 있다.스퍼터링 방법에는 DC Sputtering, RF Sputtering,

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  RF sputtering은 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하다.? ... 즉 물질에 따라서 수 10nm/분 ~ 200nm/분의 두께이다.- 타깃은 판상으로 해야 한다.- 기판이 과열되기 쉽다.② RF SputteringDC sputtering에서는 target이 ... 종류 ① DC sputtering직류전원을 이용한 sputtering 방법이다.

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

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  P-N junction을 이용한 금속산화물 반도체의 가스 센싱 감응변화 분석 실험보고서

  , DC Sputtering과 RF sputtering, 2014.04.21. ... .- 전기 화학식 가스 센서에 비해 신뢰성이 떨어진다.DC SputteringDC Sputtering은 직류전원을 이용한 sputtering 방법이다. ... 결국, 단결정 형태의 고체가 석출되면서 나노와이어가 합성되는 원리이다.출처[1] Korea new ceramicshttp://newcera.co.kr/ko/exp.html[2] blog

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.03.08

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  이공계(반도체,전기전자,화학공학 등) 대학원 교수님 컨택메일 예시

  , SEM등의 측정장비와 RF Magnetron sputter, ALD, PECVD 등의 공정장비를 다뤄보고, 제작한 MOSCAP의 특성을 CET계산을 통해 분석하고 문제점을 찾아보았습니다 ... electronics 에 크게 관심을 가지고 있으며 추가로 bending, stretching 등의 external mechanical stress를 sensing하고 구조, 소재 ... 변화를 통한 electrical properties 증가 또는 개선하는 연구, 또는 novel film stacking mechanism을 통해 soft/ flexible electronics에서

  자기소개서 | 2페이지 | 4,500원 | 등록일 2023.07.12 | 수정일 2023.07.18

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  카이스트(한국과학기술원) KAIST 일반대학원 반도체시스템공학과 자기소개서 연구계획서

  magnetron sputtering 법으로 제조된 LaFeO3 박막의 가스감지 특성 연구, 유기 패시베이션 박막 In-Zn 산화물 반도체의 안정성 향상에 관한 연구, 몬테카를로 ... 성적이 좋아져서 OO를 OO권으로 쓰지는 못했지만 그래도 계약학과인 OO대학교 반도체공학과에 입학을 하는데 성공을 했습니다.저는 카이스트 대학원 반도체시스템공학과에 진학을 한 다음에 RF

  자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.07.25

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  [고분자재료]ITO scribing & cleaning-예비레포트(만점)

  기본적으로는 물, 용매, 초음파, UV 등으로 붙은 불순물을 제거하고, 이번 실험같이 더욱 큰 순도를 요하는 실험에서는 sputtering 등의 공정을 사용하기도 한다.sputtering ... 액체나 기체 상태의 이산화탄소를s)에 ITO 박막을 sputtering 기법으로 코팅한 것을 의미한다. ... 기구 및 시약ITO glassITO glass는 투명 기판(glass)에 ITO 박막을 sputtering 기법으로 코팅한 것을 의미한다.

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.01.21

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  스퍼터링, RIE 실습 레포트

  Pre-sputter가 끝나면 셔터를 열고 스퍼터링 증착을 진행하는데 이 때 균일한 증착을 위해 로테이션을 돌려준다. ... 진행한다.① 플라즈마 방전이 확인되면 MFC를 이용하여 실험 조건의 Ar/O _{2}가스 유량으로 조절한다.② 3inch의 구리 타겟을 이용하여 Pre-sputter를 5분간 진행한다 ... 10mTorr로 설정한다.③ DC 전원을 키고 통전 전압 9V 확인 후 아웃풋을 눌러서 킨다.④ 200W로 설정하기 위해 전압을 조절하여 전류를 0.5A로 맞춰준다.(4) Pre-sputter를

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.06.28

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  ITO Film 제조 및 특성 평가 결과보고서

  Power: Sputtering 기계는 DC전원과 RF전원 두 가지가 있다.DC sputter장치구조가 간단하며, 가장 표준적인 sputter 장치이다.성막속도가 여러 종류의 금속에 ... 대해 거의 일정하며, 전류량과 박막두께가거의 정비례하므로 조절이 쉽다.RF sputtering에 비해 성막속도가 크고, 박막의 균일도가 크다.또 구조가 간단하며, 성막속도가 여러 ... sputtering금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의sputtering이 가능하며 주로 13.56 MHz의 고주파 저원을 사용한다.3.

  리포트 | 20페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.03.01 | 수정일 2022.12.03

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  [물리학과][진공 및 박막실험]진공의 형성과 RF Sputter를 이용한 ITO 박막 증착 결과 보고서

  진공의 형성과 RF Sputter를 이용한 ITO 박막 증착1. ... 또한 ITO 박막의 특성을 결정하는 조건(증착압력, RF power 등등)에 대하여 알 수 있었다.4. ... Sputter를 이용하여 ITO박막을 증착해보자.(2) Sputter 장비의 증착 순서를 익히고, 각각의 부품 역할을 이해하자.(3) ITO 박막의 특성을 결정하는 조건(증착압력, RF

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.23

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