"Pulse laser deposition technique" 검색결과 1-20 / 115건

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  Molecular Beam Epitaxy Grouth of LaAlO3 Thin Film by a Pulsed laser Deposition Technique (펄스레이저증착법을 이용한 LaAlO3 박막의 Molecular Beam Epitaxy 성장)

  한국재료학회 Kim, In-Seon, Heo, Nam-Hoe, Park, Yong-Gi

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  PLD 사전보고서

  , PLD)펄스레이저증착(PLD: Pulsed Laser Deposition)은 물리 증착법의 하나로, 표면에 박막을 형성하는 기술이다. ... 일반적으로, 레이저 어블레이션은 Pulsed laser(시간적으로 발진, 정지가 있는 레이저. ... 원료 물질 또한 불가피하게 (부품을 고정시키는 고정 장치를 포함하여) 진공 챔버 내부의 대부분의 다른 표면상에 증착될 수 있다.▶ 펄스레이저증착 (Pulsed Laser Deposition

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.06.01

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  PLD 결과보고서

  Laser Ablation of a Graphite Target in a N2 Atmosphere and Pulsed Laser Deposition(PLD) Process 결과보고서SubjectObjectDate ... (PLD) Process탄소 타겟(Graphite Target)의 어블레이션 현상을 통하여 플룸(Plume)의 형성 과정을 살펴보고, PLD(Pulsed Laser Deposition ... Laser Deposition) 과정을 이해하는 것을 목적으로 두었다.실험에서 쓰인 타겟은 Ni-Cn, Fe-Cn, Cu-Cn 이렇게 세 가지로, 타겟이 두 금속으로 이루어져있으므로

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.06.01

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  Laser Ablation of a Graphite Target in a N2 Atmosphere and Pulsed Laser Deposition 결과

  실험에 사용한 laser는 35mW 이므로 35mW = 35mJ/s 이다. 레이저의 주파수가 10Hz이므로 3.5mJ/Pulse가 된다. ... 먼저, Laser spot size를 측정하였는데 지름이 2mm였다. 이 때 spot의 넓이는 S=πr2이다. 따라서 S = 0.01π cm2 = 0.0314 cm2 이다. ... 또한 넓이에 반비례하므로 레이저의 세기는 0.11J/cm2 가 된다.첫 번째 금속은 초록색, 두 번째 금속은 푸른색에서 청록색으로, 세 번째 금속은 푸른색의 푸른색(plume)이 형성되었다

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.01.10

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  성균관대학교_신소재공학과 대학원_진학동기 및 목표

  본교 양자물성연구실에서 학부연구생으로 지내면서 실리콘 기판과 유연한 기판 위에 Pulsed Laser Deposition(PLD), spin coating 장비를 이용한 강유전체 박막의

  자기소개서 | 1페이지 | 4,000원 | 등록일 2024.04.02

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  유니스트 신소재공학과, 반도체 대학원 합격 자소서_자기소개서 3000자_한글 및 영문

  Laser Deposition (PLD) and spin coating. ... Laser Deposition(PLD), spin coating 장비를 이용한 강유전체 박막의 제작 및 측정을 통해 물성 분석에 대한 연구를 진행했습니다. ... 실험을 하면서 웨어러블 디바이스에, 세부 전공으로 신소재를 이용한 유연한 웨어러블 전자기기에 관심을 갖게 되었습니다. 2년동안 학부연구생으로 지내면서 실리콘 기판과 유연한 기판 위에 Pulsed

  자기소개서 | 2페이지 | 4,000원 | 등록일 2024.04.02 | 수정일 2024.07.12

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  PVD 증착법 예비 보고서 [A+ 레포트]

  PVDPVD(Physical Vapor Deposition)는 물리적 기상 증착이라고 불린다. ... 휘발시켜서 기판에 증착시키는 것이고 조금 더 복잡한 방법으로는 각각의 원료 물질을 cell (effusion cell)에 넣은 다음에 cell의 문을 열고 닫는 것으로 원료물질을 열, 레이저

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.06.01

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  Unusual Electrical Transport Characteristic of the SrSnO3/Nb-Doped SrTiO3 Heterostructure

  한국재료학회 De-Peng Wang, Rui-Feng Niu, Li-Qi Cui, Wei-Tian Wang

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.08.14

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  2020 하반기 ASML 영문 합격 자소서입니다.

  ASML presents engineer opportunities for individual training such as Lens and Laser and overseas training ... Through this course, I was able to learn the principle of EUV that is generated by matching two pulses ... opportunities that I applied for ASMLTaking the Integrated Circuit Engineering course, I learned the technique

  자기소개서 | 3페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.04.16

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  세라믹 공학 실험 보고서 (Pulsed laser deposition of oxide thin films and their analysis)

  이러한 properties를 확인하는 방법으로는 레이져의 intensity를 확인하는 방법이 있다. ... Method of experimentLaNiO3에 강한 laser를 쏘는 경우, LaNiO3가 분자화하면서 뜨게 된다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.01.10

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  HIVD 수술 보고서(디스크 수술/간호활동보고서)

  간호 활동 보고서 실습 항목명 HIVD(Herniated Intervertebral Disc) 수술 전후 간호 관찰하기 개요 수술의 종류는 추간판절제술, 척추 후궁 절제술, 경피적 레이저 ... -Arthrodesis of Anterior Technique-cervical spine은 경추 전방 유합술을 말함. ... , 수술 부위와 수술명, 동의서 확인, 수술 부위 표시 확인, 마취 장비와 약물 확인, Pulse oximeter 부착과 기능 확인, allergy 유무 확인, 기도 확보의 어려움과

  리포트 | 8페이지 | 2,500원 (20%↓) 2000원 | 등록일 2023.03.25 | 수정일 2023.12.20

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  세라믹실험보고서(Nano Functional Oxide Electronics Laboratory)

  Laser Deposition를 통하여 SrTiO3 기판위에 100 nm BaSnO3 thin film을 성장시키고, La로 doping한다. ... semiconducting and insulating behaviors를 하며, 고온에서도 thermal stability가 우수한 특징을 가지고있다.실험방법을 간략히 소개하자면, Pulsed

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.01.12

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  Pulsed Laser Deposition

  Pulsed Laser DepositionVapor phase depositionPulsed Laser DepositionVapor phase depositionPhysical ... PLD는 박막을 만드는 physical vapor deposition (PVD)의 한 방식이다. ... 만들고자 하는 물질의 target을 진공 Chamber에 위치시키고, 렌즈로 집중시킨 짧은 파장(높은 에너지)의 펄스 레이저를 쏘아 튀어나오는 플라즈마가 target과 마주보고 있는

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.01.17

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  Ambient Oxygen Effects on the Growth of ZnO Thin Films by Pulsed Laser Deposition

  한국재료학회 Park, Jae-Young, Kim, Sang-Sub

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  PVD

  융 점 ; 박막재료 증을 이용 . 13 펄스 레이저 증착법 (Pulse laser evaporation)장점 target 과 film 의 조성이 일치 deposition rate 가 ... 증착법 (Pulse laser evaporation)15 Electron beam evaporationThermal elcteron 16 Electron beam evaporationPrinciple ... 가능 High purity Easily multilayers deposition Deposition rate(1nm/min ~ 수 µm/min) 산화막 생산가능 ( Al₂o ₃,

  리포트 | 77페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24

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  PLD 장비 매뉴얼

  Laser start → 30초간 Predeposition12. Shutter Open하여 18초간 Deposition13. ... Laser controller On(key를 시계방향으로 돌린 후 뒤쪽 Button을 당긴다.)2. Laser shutter Open3. ... Lens Cover 벗긴 후 Laser setting : Enter →1585V, 10Hz → Q switch4.

  리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.01.17

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  2017하 LG 이노텍(제품 개발) 최종합격 자소서

  Laser Deposition)를 이용한 증착과 리소그래피, 에칭 공정 연구에 참여하였습니다.PLD를 이용하여 VO2를 3가지 변수(기판 온도, 증착 시간, 산소 분압)에 따라 증착하여 ... 대한 흥미를 가지게 되었습니다. (2016.07 ~ 2016.12)학부 연구생을 통해 느꼈던 연구에 대한 관심과 흥미를 확장 시키고자 ETRI에 지원하였습니다.ETRI에서는 PLD(Pulsed

  자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.06.16

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  증착법

  아래 오른쪽 그림은 PLD(Pulsed Laser Deposition)이며, 이것은 증발시키는 것이 아니라 laser beam을 쏘아 플라즈마를 발생시켜 증착하는 것이다. ... 이 때 물질을 증발시키는 방법에는 E-beam과 laser로 녹여주는 방법이 있다. ... ALD (원자층 증착법, Atomic layer Deposition)원자층 증착법이란 자기 제한 반응과 표면 반응을 메커니즘으로 하는 화학 기상 증착기술이다.

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2018.12.08

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  표면처리 및 설계 (논문해석 : 포토에칭)

  Experimental results and discussion Nd:YAG laser diameter : 0.9cm λ : 1064 nm Pulse width : 6 ns Repetition ... Resist applied Exposure development Etching Stripping Photo etching Technique used to delicate selection ... Oxide film Oxide film Oxide film Oxide film Substrate Substrate Substrate Photo resist Photo resist Deposition

  리포트 | 17페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.11.25 | 수정일 2015.11.26

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  [물리전자] 5.1.1 Thermal Oxidation~5.1.8 Metallization

  Such rapid heating rates are often attained by high intensity lamps or lasers. ... semiconductor manufacturing including dopant activation, thermal oxidation, metal reflow and chemical vapor deposition ... The technique forces an oxidizing agent to diffuse into the wafer at high temperature and react with

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.04.01

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