"발광디스플레이 실험" 검색결과 1-20 / 459건

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  [발광디스플레이실험] PEDOT

  발광디스플레이 실험 PEDOT실험 목적 : 고분자 박막을 만들 수 있는 Spin coating 방법을 익히고, rpm에 따른 박막의 두께 변화와 표면의 변화를 분석할 수 있다.실험 ... on the ITO 3000rpm실험 고찰 :PEDOT uv-vis 에서 투과도가 낮다는 것은 그 파장대의 영역에 대해 특별히 흡수가 많다는 것이다. ... 또한, 760nm~780nm 부근의 빛을 흡수하므로, 실제로 자세히 볼 때에 색상을 관찰 할 수 있다.실험방법:1. 샘플을 위한 기판은 다음과 같이 준비한다.

  리포트 | 5페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  [발광디스플레이실험] etching

  발광디스플레이 실험 etching실험 목적 : sputtering을 통해 증착 된 금속의 박막적 특성을 알아 본다.실험 이론 :Conductance전기전도도 라는 것으로 이 수치가 ... :etchingetching 실험은 etchant 용액에 증착된 thin film을 담가 시간에 따른 etching 양을 측정함으로써 이루어 진다.1. ... Rs = ρ/t = ( π / ln 2) V/I = 4.53V/I위의 세 식은 프로브를 대어 생기는 주위 전력선들을 적분해서 도출한 것인데, 우리 실험의 측정장비에서는 3번 수식을

  리포트 | 8페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  [발광디스플레이실험] Photolithography

  발광디스플레이 실험 Photolithography실험 목적 : Photolithography 공법에 대해 익히고, Photolithography시 etching time과 PR-exposure ... time에 의한 패턴의 상태 변화 정도를 알아 볼 수 있다.실험 이론 :박막 제조 공정1. ... :본 실험에서는 위의 박막 제조 공정 중 일부를 직접 해보며, Photo exposure(노광)공정과 식각(Etching)공정의 시간을 조절해 보아 가장 적합한 시간을 알아 본다.준비된

  리포트 | 8페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  [발광디스플레이 실험] Sputtering

  발광디스플레이 실험 – sputtering실험 목적 : sputtering을 통해 금속을 증착 시키는 방법과 장비의 사용법을 숙지하며, sputtering 시간과 증착 되는 두께 사이의 ... 실험 시간을 단축 시키기 위해서 Diffusion pump의 예열이 필요하다.4. ... 비활성 가스인 Ar을 사용한다.실험방법:1. sputtering 장비는 좌측과 같이 생겼다.

  리포트 | 8페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.01

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  [발광디스플레이 실험] Photolithography

  실험 장비의 작동 원리 및 실험 이론1. ... 실험 제목: Photolithography실험 날짜: 2011. 9. 29.실험 목적PR(Photo Resist) coating부터 etching 까지의 Photolithography ... 공정을 이해하고 실험하여 결과를 분석한다.4.

  리포트 | 10페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28

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  [발광디스플레이 실험] Phosphor의 발광특성

  아래 표로 디스플레이에서 이용하는 형광체의 발광 종류와 구성요소를 정리할 수 있다.그림 SEQ 그림 \* ARABIC 6 디스플레이의 에너지 변환 방식과 형광체의 종류형광체는 일반적으로 ... 실험 제목: Phosphor의 발광특성실험 날짜: 2011. 10. 6. / 2011. 10. 12..실험 목적CCFL용과 PDP용 Phosphor의 photo luminescence를 ... 다음은 디스플레이의 에너지 변환 방식과 형광체의 종류를 나타낸 것이다.

  리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28

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  [발광디스플레이실험] 투명전극 특성

  발광디스플레이 실험 투명전극 특성실험 목적 : 다른 종류, 다른 두께로 증착 된 투명전극의 각각의 특성을 알게 됨으로써 필요에 따른 소자를 사용할 수 있다.실험 이론 :투명전극가시영역에서 ... 주로 태양전지, 평판 디스플레이, 액정 디스플레이 등에 이용되며, 전도도의 캐리어에 따라 n 타입과 p 타입으로 나뉜다.ITOITO는 투명전극의 대표적 물질로써 Indium Tin ... 하지만, 이 양은 극히 미약하고, crystalline에 따른 영향이 더 크므로, 본 실험에서는 hard baking은 투과도에 악영향을 미친다고 결론 내릴 수 있다.

  리포트 | 6페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  유기발광 디스플레이 실험

  유기 발광 디스플레이 실험목 차1. UV- vis Spectrophotometer2. Photoluminescence spectrometer3. 고분자 박막 제조4. ... DMol을 이용하면 분자의 전자에너지, 구조 결정, 진동 주파수, 양극자 모멘트 등 다양한 분자의 성질을 예측할 수 있다.■ 실험 방법1. ... 현재 OLED는 주로 디스플레이의 목적으로연구 개발이 진행되고 있으나 백색 OLED의 개발로 인해 최근에 들어서는 고체 조명용 백색 OLED의 연구가 급속히 늘어나고 있는 추세이다.

  리포트 | 97페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.04.15 | 수정일 2021.01.01

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  [발광디스플레이실험] Alq3 특성평가

  발광디스플레이 실험 Alq3 특성평가실험 목적 : 박막의 두께에 따른 특성 변화와 밴드 갭을 측정할 수 있다.실험 이론 :Band gap-uv스펙트럼유기 물질에 빛을 투사하게 되면 ... 본 실험으론 알 수 없지만, Absorption 210nm대역은 glass의 흡광이다. 이것은 다른 물질을 측정해 볼 때에도 동일하게 측정된다.3. ... 이용하여 spectrum을 측정한다.측정된 data를 이용하여 Bandgap을 구하고, 다른 spin으로 인한 차이를 알아본다.실험 결과:투과도 그래프를 이용하여 흡광도 그래프를

  리포트 | 2페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  [발광디스플레이 실험] CNT 성장 관찰

  CNT 성장 관찰▶ 실험목적패턴에 따라 성장된 CNT의 상태를 전자현미경을 통해 확인하고, CNT의 성장과정을 파악한다.▶ 실험기구와 장비CNT 성장된 기판(Si-wafer), Carbon ... tape, 전자현미경(SEM), SEM holder, IPA, 무진지▶ 실험과정1) 600℃에서 30분간 annealing한 Si-wafer를 준비한다.2) PECVD를 이용하여 ... Carbon tape로 SEM holer와 Si-wafer를 접착시킨다.4) chamber의 진공을 맞춘 다음 Si-wafer를 chamber 안에 넣고 CNT 성장과정을 관찰한다.▶ 실험이론1

  리포트 | 10페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.01

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  [발광디스플레이 실험] BLU의 광학적 특성

  Back Light Unit(BLU) 기본 구조 및 구성 부품의 역할그림 SEQ 그림 \* ARABIC 7 BLU의 기본 구조BLU란 자체 발광 디스플레이가 아닌 LCD의 발광 Unit으로 ... 실험 장비의 작동 원리 및 실험 이론1. ... 실험 제목: BLU의 광학적 특성실험 날짜: 2011. 10. 27.실험 목적BLU의 구조와 역할을 이해하고 각 Sheet 별 휘도를 측정하여 균일도 및 광손실율을 계산한다.4.

  리포트 | 5페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28

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  [발광디스플레이 실험] Field emission 특성 평가

  발광디스플레이 실험 – Field Emission 특성 평가실험 목적 : Field Emission의 기본이론을 이해하고, CNT의 I-V특성을 파악한다.실험 이론 :1. ... 사실, 처음 예비 실험에서의 경우 2500V정도에서 셧 다운이 되었지만, 본 실험에서는 2800V에서 셧 다운 되었으므로, 2500V이후의 데이터에 대한 신뢰도가 떨어진다. ... 이로 인해 박막에서 전자가 쏘아져 나올 수 있게 된다.실험방법:1. 측정을 위해 샘플을 만든다.

  리포트 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.01

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  [발광디스플레이 실험] TCF의 전기적광학적특성

  실험 제목: ITO, FTO, TCF의 전기적, 광학적 특성평가실험 날짜: 2011. 9. 8. / 2011. 9. 15.실험 목적ITO, FTO, TCF의 전기적 특성(면저항/균일도 ... 실험 장비의 작동 원리 및 실험 이론면저항(Sheet Resistance)면저항은 개별 물질이 가지는 고유의 저항 특성의 단위 면적당 저항 값을 의미한다. ... 실험 도구 및 실험 방법1) Experimental instruments and SamplesUV-Visible Spectrophotometer (SCINCO S-4100 with

  리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28

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  [발광디스플레이실험] Phosphor 후막 제작 및 특성 평가

  발광디스플레이 실험 Phosphor 후막 제작 및 특성 평가실험 목적 : screen printing 원리를 이해하고 이 방법을 이용하여 phosphor 후막을 형성 시키고, 형성된 ... 광을 조사한 후 이로 인해 들뜨게 된 전자와 정공이 재결합하면서 발광하게 된다. ... 대개의 경우 입력 파장대 보다 긴 파장에서 빛을 발광하게 되는데, 유기 물질의 경우 거의 100%가 이러하다.

  리포트 | 3페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  [발광디스플레이 실험] 조건에 따른 광 특성 측정

  실험목적거리, 각도, 전압에 따른 광 특성 변화를 관찰한다.2. ... 실험기구와 장비백열전구-남영전구(60W, 220V), 소켓, 각도기, 줄자, 볼록렌즈(KBX 064), 렌즈 Holder, Voltage source, Optical table(DVI ... 실험과정1) Optical table에 백열전구, 볼록렌즈, Light Detector를 각각 렌즈의 초점거리의 두 배(20cm) 간격으로 설치한다.2) 0.4V에서 2.4V까지 0.2V씩

  리포트 | 7페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.01

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  [발광디스플레이 실험] CNT emitter의 전기적 특성 측정

  실험 결과 토의- 발광디스플레이 이론 중간고사 이전 시간에 배웠던 F-N plot과 field enhancement 값을 직접 구해보고, 저진공과 고진공에서 비교할 수 있어서 의미 ... 그리고 이것들이 진공 gap을 지나 anode판에 코팅 된 형광체 pixel을 때려 발광하게 되는 것이다. ... 실험 장비의 작동 원리 및 실험 이론1.

  리포트 | 6페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28

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  [발광디스플레이 실험] CNT소자의 제작과 특성평가

  실험 제목: CNT 소자의 제작과 특성평가실험 날짜: 2011. 11. 24.실험 목적CNT 소자를 제작하기 위해 cathode와 anode를 각각 제작하면서 각 공정들을 이해하고, ... SEQ 그림 \* ARABIC 24 CNT소자의 발광 관찰을 위한 회로 구성의 개략도1. ... 실험 도구 및 실험 방법1) Experimental instruments and SamplesCathode 제작RF sputtering system (+Ni target) : sputtering을

  리포트 | 16페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28

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  [발광디스플레이 실험] Ni Sputtering을 통한 박막형성

  실험 장비의 작동 원리 및 실험 이론1. ... 실험 제목: Ni sputtering을 통한 박막형성실험 날짜: 2011. 9. 22.실험 목적RF sputtering을 이용해 Ni 박막을 형성하고, SEM을 통해 그 두께와 표면을 ... 실험 도구 및 실험 방법1) Experimental instruments and Samples초음파 세척기, 비이커 : Glass 세척 (DI water, IPA(isopropyl

  리포트 | 8페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28

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  [발광디스플레이 실험] phosphor 후막 제작 및 특성 평가

  발광디스플레이 실험 – Phosphor 후막 제작 및 특성 평가실험 목적 : screen printing 원리를 이해하고 이 방법을 이용하여 phosphor 후막을 형성 시키고, 형성된 ... 광을 조사한 후 이로 인해 들뜨게 된 전자와 정공이 재결합하면서 발광하게 된다. ... 대개의 경우 입력 파장대 보다 긴 파장에서 빛을 발광하게 되는데, 유기 물질의 경우 거의 100%가 이러하다.

  리포트 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.01

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  [발광디스플레이 실험] CNT 성장을 위한 기본 기판 만들기

  실험목적Photolithography를 이용하여 CNT 성장하기 위한 기본 기판을 만들고Photolithography의 공정을 알 수 있다.2. ... 실험과정1) Patterning 된 OHP Film을 준비한다(MASK).2) Si wafer에 PR을 Sping Coating한다. ... 실험기구와 장비Spin Coater, UV 노광장치, Baker, N2 Purge, PR (Positive), CPD, Di-water, MASK, Si wafer, Nickel etchant

  리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.01

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