ITO 투명전극

소개글

ITO에 대한 전반전인 정의 재료 만드는 법 특성 과 응용등

목차

●ITO의 정의
●ITO 재료 및 타겟
●스퍼터링 법으로 인한 최적의 타겟
●고주파 마그네트론 스퍼터링 법을 사용하
여 상온에서 증착시간을 변화 시켜서 결정 화된 ITO박막을 제작하는 것과, 박막의 광 학적 특성과 표면 형상에 따른 결정거동과 의 상관관계
●ITO의 특성
●ITO의 응용

본문내용

서론:
ITO박막의 제조 방법으로는 물리적 증착 법으로 이온 플레이팅 법, 진공증착 법, 스퍼터링법 등이 있고 화학적 증착 법으로는 스프레이 법, 화학 기상 증착 법(CVD)등이 있다. 그러나 가장 주도적으로 대량생산에 응용되고 있는 방법이고 디스플레이 용도로 쓰일 때에는 스퍼터링 방법을 들 수 있다. 고분자 폴리머에 증착하기도 하는데, 보통 반응성 스퍼터링으로 기판을 가열해야 막질이 좋아지기 때문에 널리 쓰이지는 않는다. 특히 스퍼터링 방법에서도 고품위의 산화물 박막 제조의 높은 신뢰성과 재연성이 가능한 산화물 타겟을 사용한 고주파마그네트론 반응성 스퍼터링 방법을 채택하여 고 투광성 고전도성 고품질 ITO박막을 제조 하였다. 액정표시 소자의 대형화와 컬러화, 태양전지의 방지용 계측기창, IR 차단용 코팅에 효과적으로는 낮은 비저항, 가시광선 영역에서 고투과도와 적외선 영역에서의 낮은 투과도, 상온에 가까운 성막 온도, 우수한 에칭정도, 균일한 표면조직, 내습성 및 내 알칼리성, 열 안정성, 장 범위 두께 균일성 등을 만족해야한다. 이러한 조건 중에서도 투광성과 전기전도도는 ITO 박막의 성막조건 즉 산소비율, 기판온도, 파워, 압력 등에 매우 민감하게 변화하는 것으로 알려져 있으며 성막 후에 산소 분위기에서 열처리를 함으로써 그 특성을 개선할 수 있다.
방법:
ITO 박막의 제조
스퍼터링 타겟으로는 가 중량비로 10% 함유된 In산화물 타겟을 이용하고 Ar+ 가스의 플라즈마를 이용한 고주파 반응성 마그네트론 스터터링 방법으로 제조하였다. 기판으로는 Corning7059 glass

참고 자료

※참고 사이트※
www.riss4u.net
→논문 검색 사이트
www.kosen21.org
→자료 검색 사이트
www.samsungcorning.co.kr
→ITO 응용에 대해...