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[공학]Auger

*덕*
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최초 등록일
2006.10.01
최종 저작일
2006.01
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목차

개요
대표적인 분석방법
오제 공정의 원리
Summary

본문내용

개요
원자의 x선 흡수, 원자핵에서의 전자 포획,또는 내부변환에 의한 전자방출이 있은 후 원자는 원자핵에 가까운 궤도에 있던 전자를 잃고 빈자리가 생기게 된다.여기에 다른 궤도에 있던 전자가 튀어 들어오는 과정에서 대부분 특성 x선이 방출되는데 ,이 특정 x선 대신 원자 내에 전자가 방출되는 현상이 오제효과 이며 ,방출되는 전자를 오제전자 라고 한다.

대표적인 분석방법
표면분석
금속 ( ~ 20Å), 유기물, 고분자물질 ( ~ 100Å)의 표면과 계면의 구성원소 및 화학적 결합상태, 에너지 준위 등을 알아내는 기술

AES : Auger electron Spectroscopy
SAM : Scanning Auger Microscopy
RBS : Rutherford Backscattering Spectroscopy
XPS : X-ray Photoelectron Spectroscopy (ESCA)
STEM : Scanning Transmission Electron Microscopy
SEM : Scanning Electron Microscopy

AES (Auger Electron Spectroscopy)
수백 Å 크기의 Electron beam을 재료의 표면에 입사  방출되는 Auger electron의 에너지를 측정하여 재료표면을 구성하고 있는 원소의 종류 및 양을 분석해내는 표면분석 장비이다.

참고 자료

없음

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*덕*
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