ALD ppt 발표 자료
- 최초 등록일
- 2023.11.10
- 최종 저작일
- 2022.03
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목차
1. ALD 공정 개요
2. Enhanced ALD
3. ALD 최근 기술 동향
4. 참고문헌
본문내용
ALD (Atomic Layer Deposition)
다양한 기재(substrate)위에 금속 전구체와 반응 가스를 교차적으로 주입
Self-limiting surface reaction에 의해 박막을 LBL형태로 성장 시키는 진공기상증착 방법
특징
Self-limiting surface reaction
-> 복잡한 3차원 구조 기재 위에서도 매우 균일한 두께의 박막을 얻을 수 있다.
No gas phase reactions
참고 자료
반도체용 ALD 공정 장비의 진공 챔버 내부 유동에 대한 PIV 측정/ 허동현/ 서울과학기술대학교/ 2020
UV-enhanced atomic layer deposition of Al2O3 thin films at low temperature for gas-diffusion barriers/
https://slidetodoc.com/advances-in-atomic-layer-deposition-of-semiconductor-device-2/
Spatial Atomic Layer Deposition (SALD), an emerging tool for energy materials/ Comptes Rendus Physique/ 2017/ 391-400
Area-Selective Atomic Layer Deposition of SiO2 Using Acetylacetone as a Chemoselective Inhibitor in an ABC-Type Cycle/ Alfredo Mameli/ ACS NANO/2017
https://news.skhynix.co.kr/post/ald-using-atoms
https://repository.hanyang.ac.kr/bitstream/20.500.11754/105923/1/UVenhanced%20atomic%20layer%20deposition%20of%20Al2O3%20thin%20films%20at%20low%20temperature%20for%20gas-%20diffusion%20barriers.pdf
a_20160623_B4510_s04775_622.pdf
yong by 김용효 (prezi.com)