반도체공정 기말정리

소개글

반도체공정 과목이고 강의자료를 토대로 모든정보를 정리했습니다.
여기서 문제 다 나왔고 깔끔하게 에이플 받았습니다.

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본문내용

Ion Implantation : 반도체 공정 중 중요한 process 중 하나로, 불순물 반도체를 만드는 방법 중 하나이다. diffusion 방식보다 II방식이 더 정확하게 원하는 위치에 불순물을 주입할 수 있다.

이온 주입 장비를 이용해 입자를 가속시키고 이온을 플라즈마 상태로 만들어 전기장을 이용하여 필요한 이온을 추출한다. 그리고 자기장을 가해 원하는 이온만을 다시 뽑아 낸다. 이온은 가속기를 통해 속도를 가지게 되고 중간에 전기장을 다시 걸어 중성원자는 직진하고 이온은 약간 휘게 되면서 웨이퍼에 원하는 이온만 주입되도록 한다.

1. Ion Source : 플라즈마를 만들어서 원하는 이온을 생성하고 이온 빔을 추출
2. Mass Spectrometer : 원하는 이온 빔만 통과시킬 수 있음
3. High – Voltage Accelerator
4. Scanning System
5. Target Chamber

참고 자료

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