박막증착, cleaning

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목차

1. 실험목적

2. 배경 이론
1) 진공 증착 (Vacuum Evaporation Coating, Vacuum Deposition)의 정의와 원리
2) Wafer 초음파 세척
3) 진공 펌프 (Vacuum Pump)

3. 실험 방법

4. 결과 및 논의
1) 세척 전 Wafer위의 particle
2) 세척 후 Wafer위의 particle
3) Ag (은) 박막 증착
4) Hall Bar 선 폭
5) Ag 박막 두께
6) Ag의 비저항 측정

5. 결론

6. 출처

본문내용

1. 실험목적
실리콘 wafer의 결정 각도에 따른 자르기 효과를 이해할 수 있다. 초음파 세척기의 세척 원리를 이해할 수 있고, 현미경 사용법을 숙지할 수 있다. 실리콘 wafer의 결정 구조와 crack의 확산 과정을 이해할 수 있고, cleaning과정에서 각종 solvent의 역할을 설명할 수 있고, 각종 장비들의 사용법도 익힐 수 있다.

2. 배경 이론
(1) 진공 증착 (Vacuum Evaporation Coating, Vacuum Deposition)의 정의와 원리
진공 용기 속에 금속을 피복 하려하는 플라스틱이나 다른 물체 등을 넣고 진공 중에서 알루미늄이나 은과 같은 금속 조각들을 넣고 가열하여 증발시켜 그 증기로 물체의 표면에 박막형태로 부착시키는 방법이다. 일반적으로 진공 상태에서 진행되므로 진공 증착이라고 한다.
가장 일반적인 물리적 기상 증착 방법으로 진공상태에서 높은 열을 금속원에 가해 기화한 다음 상대적으로 낮은 온도의 기판에 박막을 형성하는 것으로 고체가 승화된 다음 기판에서 고화 되는것으로 생각할 수 있다. 생성된 기체 입자는 직선 운동만 하므로 기판을 놓는 위치가 중요하다.

참고 자료

https://marriott.tistory.com/73
https://blog.naver.com/PostView.nhn?blogId=ckbc6101&logNo=220966477075
https://terms.naver.com/entry.nhn?docId=1020115&cid=50325&categoryId=50325
https://www.jvac.co.kr/blank-11/gisuljaryo/jeibeg-jingongjeungcag-gaeyo-mic-weonri
https://marriott.tistory.com/116
https://blog.naver.com/youngdisplay/221244563265