RET(Resolution Enhancement Technology)기술

소개글

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목차

1. RET란?
2. OPC (Optical Proximity Correction)
3. OAI (Off-Axis Illumination)
4. PSM (Phase-Shift Masks)
5. Immersion Lightography (액침 노광)
6. Polarization Effect

본문내용

RET란?

RET는 Resolution Enhancement Technology의 약자로 분해능 향상 기술이다.
Resolution (분해능)은 인접한 두개의 물체를 별개의 것으로 구별할 수 있는 최소 거리이자 명확하게 구별할 수 있는 척도이다. 포토 공정의 미세화가 진행되면서 빛의 회절, 산란, 간섭현상 등이 발생하면서 마스크 패턴이 왜곡되어 인쇄되는 현상들이 발생되는데 이때, RET를 이용하여 분해능을 향상시켜 이를 개선할 수가 있다. RET의 종류에는 OPC, OAI, PSM, Immersion Ligthography, Polarization Effect 등이 있다.

OPC (Optical Proximity Correction)

OPC는 빛의 간섭을 고려해 패턴을 인위적으로 변조한 마스크 설계하여 Resolution을 향상시키는 방법이다. 기존에 모서리부분에서 여러 왜곡들로 인해 패턴이 잘 나타나지 않았음을 고려하여 모서리부분을 그에 맞게 보정하여 마스크를 제작한다.

Rule-based OPC: 일정한 규칙 먼저 집어넣고 거기에 맞게 패턴 수정하는 방식이다.
Model-based OPC: 원하는 형상과 시뮬레이션 이미지 비교&대조 하면서 원하는 패턴 나올때까지 수정하는 방식이다.

참고 자료

강의자료 : (6,7) Photolithography 광학 (Prof.이익수)_6H.pdf
OPC기술 :https://www.compugraphics-photomasks.com/our-capabilities/opcphase-shift/
PSM기술
https://www.photo-sciences.com/binary-phase-shift-masks/