리소그래피, 반도체공정 보고서

소개글

포토레지스트 실험 A+레포트입니다.

목차

1. 실험제목
2. 실험목적
3. 실험이론
4. 실험방법
5. 실험결과 및 고찰

본문내용

1. 실험 제목
Positive & Negative Photoresist를 이용한 Photolithography.

2. 실험 목적
Positive PR과 Negative PR의 차이점과 전체적인 Photolithography 공정의 전반적인 이해.

3. 실험 이론
포토리소그래피란?
포토리소그래피 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 패턴(Pattern)의 mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 패턴(Pattern)과 동일한 패턴(Pattern)을 형성시키는 공정이다. 포토리소그래피 공정은 일반사진의 필름(Film)에 해당하는 photo resist를 도포하는 PR 도포공정, mask를 이용하여 선택적으로 빛을 조사하는 노광공정, 다음에 현상액을 이용하여 빛을 받은 부분의 PR을 제거하여 패턴(Pattern)을 형성시키는 현상공정으로 구성된다.

참고 자료

없음