Photolithography 예비보고서

*윤*

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최초 등록일: 2020.12.16
최종 저작일: 2020.04; 3페이지/ 한컴오피스; 가격 2,000원

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소개글

"Photolithography 예비보고서"에 대한 내용입니다.

본문내용

실험제목
Photolithography

이론 및 배경
1) Lithography 정의와 Photolithography 공정 과정
Lithography(리소그래피)란, 웨이퍼라고 하는 반도체 기판에 미세하고 복잡한 전자회로 패턴이 담긴 마스크 상을 빛을 이용해 그려 회로를 그리는 기술이다. 여기서 패턴을 형성하는 방법은 흑백 사진을 만들 때 필름에 형성된 상을 인화지에 인화하는데, 그것과 유사하다고 하여 Photo Lithography(포토 리소그래피)라고도 한다.
Photolithography 공정 과정은 다음과 같다<그림1.> 깨끗이 세정된 기판(Substrate) 위에 트랜지스터(TFT) 제조에 필요한 물질을 증착한다.

참고 자료

없음

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