인하대 패터닝 예비보고서

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목차

1. 실험 목적
2. 실험 방법
3. 실험 이론
4. 참고문헌

본문내용

1. 실험 목적
마스크로 만든 패턴을 박막에 새겨 넣고, 필름 표면을 검사하고, etching 전후의 두께 변화를 측정하는 과정을 이해한다.

2. 실험 방법
1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)
2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용
3) 패턴된 산화막을 반응성 이온 식각장치를 사용하여 적절한 식각가스와 파워를 선택하여 식각 실험을 진행한다.
4) 식각된 산화막의 표면의 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용
5) 마스크 패턴의 제거 (O2 plasma ashing) - 플라즈마 애싱장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.
6) 마스크 패턴을 제거한 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용
7) 패턴의 높이를 측정하여, 식각 속도 및 식각 선택도 계산

참고 자료

『조명시장과 OLED 시장보고서(조명시대의 甲, OLED)』, 비피기술거래
Michael Quirk, Julian Serda, 『반도체 소자 공정기술』, 최성재 옮김, 청문각
첸밍 후, 『현대 반도체 소자 공학』, 권기영, 신형철, 이종호 공역, 한빛미디어
황호정, 『반도체 공학』, 생능출판