화공계측실험Pre-Report (10)-Photolithography

소개글

포항공대 화학공학과 전공필수 과목인
화공계측실험 보고서입니다
PRE-Report 는 실험전 사전지식을 정리하는 보고서이고
Final-Report는 실험후 결과를 정리하는 보고서 입니다.

두가지를 모두 참고하셔서 과제에 도움이 되시길 바랍니다.

목차

1. 실험 제목
2. 실험 목적
3. 이론 및 배경지식
4. 실험 장비
5. 실험 순서
6. 참고문헌

본문내용

1. 실험 제목
Photolithography
2. 실험 목적
이번 실험에서는 photolithography 과정을 수행할 것이다. 순서대로 과정을 진행하면서 우리는 micro-pattern 을 만들어내는 전자 화학적 process를 이해하는 데 초점을 맞출 것이다. 이 과정은 반도체 산업과 디스플레이 산업에서 필수적인 과정이기도 하다.
3. 이론 및 배경지식
1) Photolithography
Photolithography란 얇은 필름이나 물질에 pattern을 미세하게 가공하는 공정이다. 빛을 사용하여 기하학적인 무늬를 쉽게 만들어 낼 수 있다. 공정 중에는 빛에 민감하게 반응하는 ‘photo-resist’ 라는 물질을 surface에 바르고 그 위에 수직으로 빛을 비춘다.

참고 자료

M. Madou, Fundamentals of Microfabrication. Boca Raton, Florida, CRC Press(2002)
Proc. SPIE 3049, Advances in Resist Technology and Processing XIV, 28 (1997)
R. C. Jaeger, Lithography: Introduction to Microelectronic Fabrication, 2nd ed., Upper Saddle River, Prentice Hall (2002).
B. J. Lin, Optical Lithography, SPIE Press, Bellingham, WA (2009)
J. Photopolymer Sci. Tech., Vol.4 No.3, 299-318 (1991)