재료공학실험1 - Photolithography에 대한 이해

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목차

1. Negative PR은 일부 특수한 공정에서 사용합니다. 그 중, 디스플레이 Color Filter(C/F) 공정은 Negative PR을 사용하게 되는데, 여기서 Color Filter 공정은 무엇이고, 왜 Negative PR을 사용해야 하는지 정리하세요.
2. 포토 공정을 진행한 후, 전자현미경으로 단면을 관찰하자 다음과 같은 구조가 확인되었다. 이 구조를 패터닝하기 위해 진행되는 각 공정별 이미지를 그리고, 세부 공정별로 간단하게 설명하세요. (PR은 Positive Type).

본문내용

Negative PR은 UV를 조사받지 않은 곳이 현상액과 반응하여 Develop되는 PR Type이다. 즉, 남기고자 하는 부분에 빛을 조사하는 것이다. 따라서, 얻고 싶은 Pattern의 회로에 반대되는 Mask가 필요하다. 만일 A를 현상하고 싶다면, Positive PR은 A 형태로 빛을 막아주는 Mask를 사용하지만, Negative PR은 얻고 싶은 회로만 막지 않은 Mask가 필요하다는 것이다.
대부분의 공정에서는 Positive PR을 사용하는데, 이는 해상력이 월등히 높아서이다. Negative PR은 빛을 받으면, Crosslink된 Polymer에 의해 접촉력이 강해지게 되고, Develop공정에서 현상액과 반응하게 되면, Crosslink된 고분자는 물을 흡수하여 부피가 팽창하는 팽윤(Swelling)현상이 발생하게 된다. 이로 인해 해상력이 떨어지고, 미세공정이 어려워지게 되는 것이다.

참고 자료

없음