2주차 고분자 박막제조 및 분석(예비)

목차

1. 실험제목
2. 실험날짜
3. 이론 및 배경
4. 참고문헌

본문내용

Spin coating,
- Spin coating은 회전하는 기질에서 생겨나는 원심력을 이용해 편차가 100에서 200 nm 정도의 균일한 박막을 표면에 도입하는 기법이다. 코팅하고자 하는 기질 위에 과량의 고분자 용액을 뿌려준 후 표면을 매우 빠르게 회전시켜주면, 회전시켜 주는 속도와 고분자 용액의 점성에 따라 일정한 두께의 박막이 표면에 도입되게 되고 과량의 용액은 기질 외부로 튕겨져 나가게 된다. 이때 생성되는 박막의 두께는 다음의 일련의 식들로 유추할 수 있다.
hf는 코팅된 박막의 두께를 나타내고, x 는 용액 중에서 실제로 표면과 작용할 수 있는 고분자의 비율을 나타낸다. e와 K는 위 식과 같이 정의되며 ω는 각속도, ρ 는 용액의 밀도, C 는 코팅된 박막 위의 기체 흐름의 종류에 따른 상수, η 는 용액의 점성을 나타낸다.
실제 spin coater는 기질을 올리는 지지대가 진공 펌프와 연결되어 있어, 기질 회전하는 동안 기질을 고정시킬 수 있도록 되어 있으며, 회전 속도 및 회전 시 또한 원하는 대로 선택할 수 있다.

참고 자료

전자재료, 김봉렬, 한신문화사, [1979]
Filik J, Stone N, Drop coating deposition Raman spectroscopy of protein mixtures, Analyst [2007]
고분자 합성화학, p.25, 정평진, 동명사[2003]
고분자 재료(2), p.87~88, 고분자재료편찬회, 문운당[2004]
고분자 화학, p. 316~317, 안태완, 문운당[2008]