나노발표-이온주입

소개글

이온주입에 관한 피피티 입니다. 이온주입 원리와 실생활에 사용되는 이온주입의 예를 사진과 함께 첨부하였습니다. 발표 시 최고의 평가를 받은 피피티 입니다.

목차

반도체 제조공정에서의 이온주입
이온주입이란
이온주입기
이온주입원리
이온주입 장점, 단점
채널링, 격자손상, 아닐링
실생활에 적용된 이온주입의 예
출처

본문내용

이온주입이란
이온 주입(Ion implantation)
GAS나 SOLID형태의 불순물 원자 또는 분자를 이온화 시킨 후, 이온을 고에너지로 가속시켜 재료의 표면에 강력한 이온의 직접적인 주입을 하여 표면에 개질된 층을 만드는 대표적인 기술
불순물(P,B,BF2,As,Ge)를 wafer에 주입하는 공정



고집적회로를 위한 반도체의 도핑(doping)
웨이퍼의 표면위에 새로운 층을 형성하지 않음
웨이퍼의 표면 위의 세밀한 부분에 전기적 특성을 변화시킴.
P타입 : B, Ga, In
N타입 : Sb, As, P, Bi

참고 자료

황호정저, 반도체 공정기술, 생능출판사, (1999)
2. (석사 논문)이온 주입된 고분자에서 전기적 특성과 광학적 특성간의 상관관계에 관한 연구 - 임 석 진 (2000) 한양대
3. (교재) 이종덕저, 실리콘 집적회로 공정기술, 2차 개정판, 대영사(大英),(1991)
4. Plasma Source Ion Implantation -전중환(포항산업과학연구원(RIST) 재료공정연구센터)
5. http://smdl.snu.ac.kr/Lecture/semi_process/index.html
6.http://aerosol.che.cau.ac.kr/ftp_up/kykim/ii1.html