반도체 및 나노물리학 과제물

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반도체 및 나노물리학의 주요 정리한 레포트입니다.

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[문제 5]
물리기상증착법 (physical vapor deposition)의 단점인 directional growth를 해결하기 위해 화학기상증착법 (chemical vapor deposition)을 사용하고자 한다. 박막 증착 과정을 다음 네 가지로 구분할 수 있는데, 이를 순서대로 나열하고 예를 들어 설명

1. 소스 이동
기체와 dopants 같은 반응물들은 substrate region으로 운송된다.
반응물들은 흡수된 곳에서 substrate 표면으로 이동되어진다.
2. 화학 반응
epitaxial층의 성장에 따라 표면에서 촉매작용을 하는 화학반응이 발생한다.
3. 박막 증착
기체의 생성물들은 주요 기체 흐름에 탈착된다.
4. 부산물 제거
반응 생성물들은 반응공간에서 벗어나게 된다.

예) 전자싸이클로트론공명플라즈마 화학기상증착법(ECR-PECVD)에 의한 Pt 및 RuO2 기판에서의 PZT 박막의 증착을 예로 들 수 있다.

참고 자료

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