Vacuum Technology

소개글

Vacuum Technology

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 진공 이론의 기초
Ⅲ. 오일 회전식 베인 펌프
Ⅳ. 건식 진공 펌프
Ⅴ. 부스터 펌프
Ⅵ. 터보 분자 펌프
Ⅶ. 크라이오 펌프

본문내용

Ⅰ. 서론
21세기를 맞이하여 눈부시게 발전하는 분야들 중의 하나가 반도체·디스플레이 산업 분야이며, 이 분야는 우리나라가 주도적으로 발전을 이끄는 분야이기도 하다. 반도체·디스플레이 산업은 많은 공정으로 이루어져 있으며, 그 공정들의 대부분은 진공 중에서 수행된다. 이러한 사실은 진공 기술이 반도체·디스플레이 산업의 필수적인 기초 기술임을 의미한다.
진공관련 과학기술 발전의 역사를 보면 처음으로 진공이 만들어진 이후 장시간 동안 커다란 기술적 발전이 없었고, 제2차 세계대전이 발발할 때까지 진공 기술에 의한 여러 자연 현상들이 발견되었을 뿐이다. 진공이 처음으로 중공업에 사용되면서 제2차 세계대전은 진공장비의 대형화와 양산화라는 변화를 가져왔고, 각종 진공 밀봉부품의 제작 기술의 개발과 헬륨 누출검출기의 개발 등 진공 기술에 일대 혁명을 가져왔다. 이 사실들은 진공 과학기술이 국가적으로뿐 아니라 산업적으로 얼마나 중요한지를 보여주는 것이라 할 수 있다.
진공 과학기술의 발전은 진공을 만드는데 필요한 진공 펌프, 만들어진 진공을 측정하는데 필요한 진공 게이지, 그리고 진공 시스템을 구성하는 물질의 개발로 나누어질 수 있다. 본 해설서에는 진공 이론의 기초를 간략하게 먼저 언급하고 반도체·디스플레이 분야에서 많이 사용되고 있는 진공을 만드는데 필요한 진공 펌프에 대해여 기술하겠다. 저진공 펌프는 Rotary Vane Pump·Dry Pump·Booster Pump 등에 대해서, 고진공 펌프는 Turbo-Molecular Pump와 Cryo Pump에 대해 기술하도록 하겠다.

Ⅱ. 진공 이론의 기초
진공이란 대기압보다 낮은 압력 상태를 말한다. 즉, 공기나 가스가 제거되어 대기압에서의 밀도보다 낮은 상태를 유지하는 공간을 뜻한다. 기체 분자 밀도가 낮으면 낮을수록 진공은 더 좋아지므로 기체 분자 밀도를 이용하여 진공의 정도(진공도)를 표시할 수 있겠지만, 기체 분자 밀도 숫자가 매우 커서 이것을 이용하여 진공을 표시하는 것은 실용적이지 못하다

참고 자료

없음