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반도체제작공정-박막증착공정

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최초 등록일
2010.09.09
최종 저작일
2010.09
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소개글

반도체제작공정-박막증착공정

목차

1. Evaporation
2. Sputter
3. DC Sputter
4. RF Sputter
5. Magnetron Sputter
6. DC&RF Magnetron sputter
7. Ion beam sputter
8. Chemical vapor deposition

본문내용

CVD overview (II)
Types of CVD reactions
Pyrolysis – thermal decomposition
Reduction
Oxidation
Compound formation
Disproportionation
Reversible transfer

Advantages
high growth rates possible
can deposit materials which are hard to evaporate
can grow epitaxial films

Disadvantages
high temperatures
complex processes
toxic and corrosive gasses

참고 자료

없음
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