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연속반응기 (CSTR과 PFR) 예비 + 결과

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최초 등록일
2009.06.28
최종 저작일
2009.04
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소개글

이 실험은 Tubular reactor 와 continuous stirred tank reactor를 이용한 반응 속도상수 결정에 목적을 두었다.
CSTR 과 PFR에서 묽은 수산화나트륨과 에틸아세테이트의 가수분해반응에 대한 전도도를 측정하여 농도와의 관계를 plot하여 반응상수를 결정 할 수 있었다.이에 따른 CSTR 과 PFR에서 묽은 수산화나트륨과 에틸아세테이트의 가수분해반응에 대한 전도도를 측정하여 농도와의 관계를 plot하여 반응상수를 결정 할 수 있었다. 전도도와 농도는 NaOH 의 표준 시료를 이용하여 각 농도에 따른 전도도를 측정하고 반응기의 흐름(유량)을 달리 하여 각 실험에 대한 전도도를 측정하여 각 조건에 따른 농도를 측정할 수 있었다. 전도도와 농도는 NaOH 의 표준 시료를 이용하여 각 농도에 따른 전도도를 측정하고 반응기의 흐름(유량)을 달리 하여 각 실험에 대한 전도도를 측정하여 각 조건에 따른 농도를 측정할 수 있었다. 실험은 PFR과 CSTR에 대해 행하였으며 그에 따른 결과 반응상수 K는 PFR은 8.256 CSTR은 0.684로 구해졌다.

목차

1.서 론
목 적
배 경

2.이론
반 응 기 의 소 개
설 계
반 응 형 태
P F R 과 C S T R 의 장 단 점

3.실험방법
준 비 작 업
시 료 의 공 급
시 료 의 전 처 리
검 량 선 작 성
Sample 작 성

4.결 과 및 토 론
1)검 량 선 의 농 도 vs 전 도 도 PLOT
2)각 Conductivity의 농도
3)전 환 율 과 머 무 름 시 간
4)PFR[X/(1-X) vs tr]. CSTR[X/(1-X)2]의 PLOT, K
5)P F R 부피2배 일때 전환율과 반응속도상수 K
토 론

5.결 론

6.참고문헌

본문내용

1.서론
⊙ 목적
Tubular reactor 와 continuous stirred tank reactor의 유량을 달리하여 반응 속도상수를
결정한다.

⊙ 배경
화학공업은 원료에 일련의 물리적 및 화학적 변화를 주어 가치있는 제품으로 변화시켜 나가는
프로세스공업이다. 화학공업의 프로세서는 복잡하지만, 원료의 제조공정, 반응공정 및 생성 물의 분리 • 정제공정에서 이용되는 것이 많다, 반응공정의 전후는 물리적인 프로세스이고, 유동, 전열, 증류, 흡수, 건조, 기계적 분리 등의 각종의 단위조작에 의해 성립하고 있다. 화학공학은 단위조작과 반응 프로세스를 공학적으로 체계화해서 반응공학이라고 불리우는 분 야를 개척했다. 반응공학은 합리적이고 경제적인 프로세스의 선정과 조작조건을 확립해서, 이에 적당한 반응장치 형태의 선정과 설계 및 조작에 관한 공학이고 화학공학을 구성하는 중 요한 한 분야이다.
반응 프로세서가 결정되고 조작조건이 지정되면, 우선 적당한 반응장치를 선정해서 반응장치 의 크기를 결정하지 않으면 안된다. 이와같은 일련의 작업을 반응장치의 공정설계이다. 반응 장치의 상세한 구조설계, 생산비계산을 기초로 해서 최적화의 문제도 중요하다. 따라서 처단 산업인 신소재공업, 전기 • 전자재료공업, 생물화학공업 등의 여러분야의 공정설계에도 반응 공학이 필수적으로 요구된다.
반응장치를 합리적으로 설계하는데 있어서는, 반응의 특성을 파악해서 반응속도를 반응성분 및 촉매의 농도, 반응온도 등을 함수로 해 둘 필요가 있다. 반응속도의 자료는 실험용 소형 반응장치, 파이롯트 플랜드, 산업용 반응장치 등에서 얻어지지만, 이들 반응장치 내에서는 화학반응이 단독으로만 일어나는 것이 아니고, 화학반응이 물질이동, 열전달, 반응유체의 혼 합 등의 물리적 현상과 복잡한 경로를 합한 상태로 진행하고 있다. 따라서 분응속도를 해석 할 때는, 물리적인자를 될 수 있는한 제외한 조건하에서 자료를 처리해서 화학반응 속도를 구해야 한다. 만일 그것이 불가능하면 물리적 현상을 포함한 자료를 해석해서 물리적인자의 영향을 분리해서 반응속도를 구하면 된다.

참고 자료

① 화학반응공학 / 희중당 / H.scott.fogler / 1994 / p10~30, 59, 72-90, 758~770, 786~787
② 화학반응공학 / (주)사이텍 미디어 / Octave Levenspiel / 2000 / p350~378
③ 화학반응공학 / 대영사 / 설수덕 / 1997.9.8 / p.11~14, 69~84, 155~157, 167~168
➃ 화학반응공학 / 희중당 / FOGLER / 1989.2.20 / p206
⑤ 물리화학 / (주)사이텍 미디어 / Gilbert W. Castellan/ 1986 / p722, 726~734
⑥ 분석화학 / 자유아카데미 / 김강진외 3명 / p74~175
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