디스플레이 물성및재료 반도체 제조공정 디스플레이 제조공정4

소개글

전기전자 디스플레이 물성및재료 반도체 제조공정 디스플레이 제조공정

목차

없음

본문내용

1. Implant란 무엇인지 간단히 서술하시오
순수한 반도체는 그 자체가 부도체에 가까운데 여기에 도핑, 즉 불순물을 주입함으로써 전기적 특성을 결정할 수 있다 이 불순물을 주입하는 방법 중 하나를 말한다.


2. Implant 용어 중 Dose는 무슨 의미인가?
단위 면적당 주입되는 이온의 개수


3. Implant 용어 중 Dopant는 무슨 의미인가?
이온주입에 사용되는 불순물을 말한다


4. 이온 주입 공정의 장점
1) 단위 이온 주입량의 조절이 용이하다
2) 수평적 확산이 적다
3) 상온에서 공정이 가능


5. 이온 주입 공정의 단점
1) 장비가 복잡하며 고가이다
2) Silicon 격자에 손상을 준다


6. 이온 주입 장비의 종류
1) Mid Current Implanter
2) High Current Implanter
3) High Energy Implanter


7. 이온 주입 장비를 크게 3부분으로 나누시오
Source, Beamline, Endstation

참고 자료

없음